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全自動(dòng)顯微維氏硬度計(jì):提高材料質(zhì)量評(píng)估的關(guān)鍵工具
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輪廓儀在晶圓的IC封裝中的應(yīng)用:
晶圓的IC制造過程可簡單看作是將光罩上的電路圖通過UV刻蝕到鍍膜和感光層后的硅晶圓上這一過程,其中由于光罩中電路結(jié)構(gòu)尺寸極小,任何微小的黏附異物和下次均會(huì)導(dǎo)致制造的晶圓IC表面存在缺 陷,因此必須對(duì)光罩和晶圓的表面輪廓進(jìn)行檢測(cè),檢測(cè)相應(yīng)的輪廓尺寸。
白光輪廓儀的典型應(yīng)用:
對(duì)各種產(chǎn)品,不見和材料表面的平面度,粗糙度,波溫度,面型輪廓,表面缺 陷,磨損情況,腐蝕情況,孔隙間隙,臺(tái)階高度,完全變形情況,加工情況等表面形貌特征進(jìn)行測(cè)量和分析。
通過光學(xué)表面三維輪廓儀的掃描檢測(cè),得出物件的誤差和超差參數(shù),**提高物件在生產(chǎn)加工時(shí)的精確度?;魇枯喞獌x推薦廠家
比較橢圓偏振儀和光譜反射儀光譜橢圓偏振儀(SE)和光譜反射儀(SR)都是利用分析反射光確定電介質(zhì),半導(dǎo)體,和金屬薄膜的厚度和折射率。兩者的主要區(qū)別在于橢偏儀測(cè)量小角度從薄膜反射的光,而光譜反射儀測(cè)量從薄膜垂直反射的光。獲取反射光譜指南入射光角度的不同造成兩種技術(shù)在成本,復(fù)雜度,和測(cè)量能力上的不同。由于橢偏儀的光從一個(gè)角度入射,所以一定要分析反射光的偏振和強(qiáng)度,使得橢偏儀對(duì)超薄和復(fù)雜的薄膜堆有較強(qiáng)的測(cè)量能力。然而,偏振分析意味著需要昂貴的精密移動(dòng)光學(xué)儀器。光譜反射儀測(cè)量的是垂直光,它忽略偏振效應(yīng)(絕大多數(shù)薄膜都是旋轉(zhuǎn)對(duì)稱)。因?yàn)椴簧婕叭魏我苿?dòng)設(shè)備,光譜反射儀成為簡單低成本的儀器。光譜反射儀可以很容易整合加入更強(qiáng)大透光率分析。從下面表格可以看出,光譜反射儀通常是薄膜厚度超過10um的優(yōu)先,而橢偏儀側(cè)重薄于10nm的膜厚。在10nm到10um厚度之間,兩種技術(shù)都可用。而且具有快速,簡便,成本低特點(diǎn)的光譜反射儀通常是更好的選擇。光譜反射率光譜橢圓偏振儀厚度測(cè)量范圍1nm-1mm(非金屬)-50nm(金屬)*-(非金屬)-50nm(金屬)測(cè)量折射率的厚度要求>20nm(非金屬)5nm-50nm(金屬)>5nm(非金屬)>。輪廓儀高性價(jià)比選擇由于光罩中電路結(jié)構(gòu)尺寸極小,任何微小的黏附異物和下次均會(huì)導(dǎo)致制造的晶圓IC表面存在缺 陷。
輪廓儀在集成電路的應(yīng)用
封**ump測(cè)量
視場(chǎng):72*96(um)物鏡:干涉50X 檢測(cè)位置:樣品局部
面減薄表面粗糙度分析
封裝:300mm硅片背面減薄表面粗糙度分析 面粗糙度分析:2D, 3D顯示;線粗糙度分析:Ra, Ry,Rz,…
器件多層結(jié)構(gòu)臺(tái)階高 MEMS 器件多層結(jié)構(gòu)分析、工藝控制參數(shù)分析
激光隱形切割工藝控制 世界***的能夠?qū)崿F(xiàn)激光槽寬度、深度自動(dòng)識(shí)別和數(shù)據(jù)自動(dòng)生成,**地縮
短了激光槽工藝在線檢測(cè)的時(shí)間,避免人工操作帶來的一致性,可靠性問題
歡迎咨詢。
表面三維輪廓儀對(duì)精密加工的作用:
一、從根源保障物件成品的準(zhǔn)確性:
通過光學(xué)表面三維輪廓儀的掃描檢測(cè),得出物件的誤差和超差參數(shù),**提高物件在生產(chǎn)加工時(shí)的精確度。杜絕因上游的微小誤差形成“蝴蝶效應(yīng)”,造成下游生產(chǎn)加工的更大偏離,**終導(dǎo)致整個(gè)生產(chǎn)鏈更大的損失。
二、提高效率:
智能化檢測(cè),全自動(dòng)測(cè)量,檢測(cè)時(shí)只需將物件放置在載物臺(tái),然后在檢定軟件上選擇相關(guān)參數(shù),即可一鍵分析批量測(cè)量。擯棄傳統(tǒng)檢測(cè)方法耗時(shí)耗力,精確度低的缺點(diǎn),**提高加工效率。
三、涵蓋面廣的2D、3D形貌參數(shù)分析:
表面三維輪廓儀可測(cè)量300余種2D、3D參數(shù),無論加工的物件使用哪一種評(píng)定標(biāo)準(zhǔn),都可以提供***的檢測(cè)結(jié)果作為評(píng)定依據(jù),可輕松獲取被測(cè)物件精確的線粗糙度、面粗糙度、輪廓度等參數(shù)。
四、穩(wěn)定性強(qiáng),高重復(fù)性:
儀器運(yùn)用高性能內(nèi)部抗震設(shè)計(jì),不受外部環(huán)境影響測(cè)量的準(zhǔn)確性。超精密的Z向掃描模塊和測(cè)量軟件完美結(jié)合,保證高重復(fù)性,將測(cè)量誤差降低到亞納米級(jí)別。 儀器運(yùn)用高性能內(nèi)部抗震設(shè)計(jì),不受外部環(huán)境影響測(cè)量的準(zhǔn)確性。
輪廓儀的物鏡知多少?
白光干涉輪廓儀是基于白光干涉原理,以三維非接觸時(shí)方法測(cè)量分析樣片表面形貌的關(guān)鍵參數(shù)和尺寸,典型結(jié)果包括:
表面形貌(粗糙度,平面度,平行度,臺(tái)階高度,錐角等)
幾何特征(關(guān)鍵孔徑尺寸,曲率半徑,特征區(qū)域的面積和集體,特征圖形的位置和數(shù)量等)
白光干涉系統(tǒng)基于無限遠(yuǎn)顯微鏡系統(tǒng),通過干涉物鏡產(chǎn)生干涉條紋,使基本的光學(xué)顯微鏡系統(tǒng)變?yōu)榘坠飧缮鎯x。
因此物鏡是輪廓儀****的部件,
物鏡的選擇根據(jù)功能和檢測(cè)的精度提出需求,為了滿足各種精度的需求,需要提供各種物鏡,例如標(biāo)配的10×, 還有2.5×,5×,20×,50×,100×,可選。
不同的鏡頭價(jià)格有很大的差別,因此需要量力根據(jù)需求選配對(duì)應(yīng)的鏡頭哦。
輪廓儀在晶圓的IC封裝中的應(yīng)用:
晶圓的IC制造過程可簡單看作是將光罩上的電路圖通過UV刻蝕到鍍膜和感光層后的硅晶圓上這一過程,其中由于光罩中電路結(jié)構(gòu)尺寸極小,任何微小的黏附異物和下次均會(huì)導(dǎo)致制造的晶圓IC表面存在缺 陷,因此必須對(duì)光罩和晶圓的表面輪廓進(jìn)行檢測(cè),檢測(cè)相應(yīng)的輪廓尺寸。 測(cè)量模式:移相干涉(PSI),白光垂直掃描干涉(VSI),單色光垂直掃描干涉(CSI)。光學(xué)輪廓儀當(dāng)?shù)貎r(jià)格
但是在共焦圖像中,通過多***盤的操作濾除模糊細(xì)節(jié)(未聚焦),只有來自聚焦平面的光到達(dá)CCD相機(jī)。基恩士輪廓儀推薦廠家
輪廓儀的**團(tuán)隊(duì)
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15年ADE,KAL-Tencor半導(dǎo)體檢測(cè)設(shè)備公司研發(fā)、項(xiàng)目管理經(jīng)驗(yàn)
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唐壽鴻博士,國家千人****
25年 ADE,KAL-Tencor半導(dǎo)體檢測(cè)設(shè)備公司研發(fā)經(jīng)驗(yàn)
KLA-Tencor ***研發(fā)總監(jiān),***圖像處理、算法**
許衡博士,軟件系統(tǒng)研發(fā)
10 年硅谷世界500強(qiáng)研發(fā)經(jīng)驗(yàn)(BD Medical
Instrument)
光學(xué)測(cè)量、軟件系統(tǒng)
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