全自動金相切割機的切割精度與穩(wěn)定性分析-全自動金相切割機
全自動顯微維氏硬度計在電子元器件檢測中的重要作用
全自動顯微維氏硬度計:提高材料質(zhì)量評估的關(guān)鍵工具
全自動維氏硬度計對現(xiàn)代制造業(yè)的影響?-全自動維氏硬度計
跨越傳統(tǒng)界限:全自動顯微維氏硬度計在復(fù)合材料檢測中的應(yīng)用探索
從原理到實踐:深入了解全自動顯微維氏硬度計的工作原理
全自動金相切割機在半導(dǎo)體行業(yè)的應(yīng)用前景-全自動金相切割機
全自動金相切割機的工作原理及優(yōu)勢解析-全自動金相切割機
全自動洛氏硬度計在材料科學(xué)研究中的應(yīng)用?-全自動洛氏硬度計
全自動維氏硬度計在我國市場的發(fā)展現(xiàn)狀及展望-全自動維氏硬度計
F50 系列
包含的內(nèi)容:集成光譜儀/光源裝置光纖電纜4", 6" and 200mm 參考晶圓TS-SiO2-4-7200 厚度標準BK7 參考材料整平濾波器 (用于高反射基板)真空泵備用燈
型號 厚度范圍*波長范圍
F50:20nm-70μm 380-1050nm
F50-UV:5nm-40μm 190-1100nm
F50-NIR:100nm-250μm 950-1700nm
F50-EXR:20nm-250μm 380-1700nm
F50-UVX:5nm-250μm 190-1700nm
F50-XT:0.2μm-450μm 1440-1690nm
F50-s980:4μm-1mm 960-1000nm
F50-s1310:7μm-2mm 1280-1340nm
F50-s1550:10μm-3mm 1520-1580nm
額外的好處:每臺系統(tǒng)內(nèi)建超過130種材料庫, 隨著不同應(yīng)用更超過數(shù)百種應(yīng)用工程師可立刻提供幫助(周一 - 周五)網(wǎng)上的 “手把手” 支持 (需要連接互聯(lián)網(wǎng))硬件升級計劃 可見光可測試的深度,良好的厚樣以及多層樣品的局部應(yīng)力。Filmetrics F32膜厚儀可以試用嗎
測量復(fù)雜的有機材料典型的有機發(fā)光顯示膜包括幾層: 空穴注入層,空穴傳輸層,以及重組/發(fā)光層。所有這些層都有不尋常有機分子(小分子和/或聚合物)。雖然有機分子高度反常色散,測量這些物質(zhì)的光譜反射充滿挑戰(zhàn),但對Filmetrics卻不盡然。我們的材料數(shù)據(jù)庫覆蓋整個OLED的開發(fā)歷史,能夠處理隨著有機分子而來的高折射散射和多種紫外光譜特征。軟基底上的薄膜有機發(fā)光顯示器具有真正柔性顯示的潛力,要求測量像PET(聚乙烯)塑料這樣有高雙折射的基準,這對托偏儀測量是個嚴重的挑戰(zhàn): 或者模擬額外的復(fù)雜光學(xué),或者打磨PET背面。 而這些對我們非偏振反射光譜來說都不需要,極大地節(jié)約了人員培訓(xùn)和測量時間。操作箱中測量有機發(fā)光顯示器材料對水和氧極度敏感。 很多科研小組都要求在控制的干燥氮氣操作箱中測量。 而我們體積小,模塊化,光纖設(shè)計的儀器提供非密封、實時“操作箱”測量。Filmetrics F3-CS膜厚儀可以試用嗎F20-UV測厚范圍:1nm - 40μm;波長:190-1100nm。
電介質(zhì)成千上萬的電解質(zhì)薄膜被用于光學(xué),半導(dǎo)體,以及其它數(shù)十個行業(yè), 而Filmetrics的儀器幾乎可以測量所有的薄膜。
測量范例氮化硅薄膜作為電介質(zhì),鈍化層,或掩膜材料被廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)。這個案例中,我們用F20-UVX成功地測量了硅基底上氮化硅薄膜的厚度,折射率,和消光系數(shù)。有趣的事,氮化硅薄膜的光學(xué)性質(zhì)與薄膜的分子當量緊密相關(guān)。使用Filmetrics專有的氮化硅擴散模型,F(xiàn)20-UVX可以很容易地測量氮化硅薄膜的厚度和光學(xué)性質(zhì),不管他們是富硅,貧硅,還是分子當量。
FSM 8018 VITE測試系列設(shè)備
VITE技術(shù)介紹:
VITE是傅里葉頻域技術(shù),利用近紅外光源的相位剪切技術(shù)(Phase shear technology)
設(shè)備介紹
適用于所有可讓近紅外線通過的材料:硅、藍寶石、砷化鎵、磷化銦、碳化硅、玻璃、石 英、聚合物…………
應(yīng)用:
襯底厚度(不受圖案硅片、有膠帶、凹凸或者粘合硅片影響)
平整度
厚度變化 (TTV)
溝槽深度
過孔尺寸、深度、側(cè)壁角度
粗糙度
薄膜厚度
不同半導(dǎo)體材料的厚度
環(huán)氧樹脂厚度
襯底翹曲度
晶圓凸點高度(bump height)
MEMS 薄膜測量
TSV 深度、側(cè)壁角度...
紅外干涉測量技術(shù), 非接觸式測量。
接觸探頭測量彎曲和難測的表面
CP-1-1.3測量平面或球形樣品,結(jié)實耐用的不銹鋼單線圈。
CP-1-AR-1.3可以抑 制背面反射,對 1.5mm 厚的基板可抑 制 96%。 鋼制單線圈外加PVC涂層,比較大可測厚度 15um。
CP-2-1.3用于探入更小的凹表面,直徑 17.5mm。
CP-C6-1.3探測直徑小至 6mm 的圓柱形和球形樣品外側(cè)。
CP-C12-1.3用于直徑小至 12mm 圓柱形和球形樣品外側(cè)。
CP-C26-1.3用于直徑小至 26mm 圓柱形和球形樣品外側(cè)。
CP-BendingRod-L350-2彎曲長度 300mm,總長度 350mm 的接觸探頭。 用于難以到達的區(qū)域,但不會自動對準表面。
CP-ID-0to90Deg-2用于食品和飲料罐頭內(nèi)壁的接觸探頭。
CP-RA-3mmDia-200mmL-2直徑**小的接觸探頭,配備微型直角反射鏡,用來測量小至直徑 3mm 管子的內(nèi)壁,不能自動對準表面。
CP-RA-10mmHigh-2配備微型直角反射鏡,可以在相隔 10mm 的兩個平坦表面之間進行測量。 產(chǎn)品名稱:紅外干涉厚度測量設(shè)備。西藏膜厚儀
F30 系列是監(jiān)控薄膜沉積,**強有力的工具。Filmetrics F32膜厚儀可以試用嗎
由于在重大工程、工業(yè)裝備和質(zhì)量保證、基礎(chǔ)科研中,儀器儀表都是必不可少的基礎(chǔ)技術(shù)和裝備重點,除傳統(tǒng)領(lǐng)域的需求外,新興的智能制造、離散自動化、生命科學(xué)、新能源、海洋工程、軌道交通等領(lǐng)域也會產(chǎn)生巨大需求。目前,磁記錄,半導(dǎo)體,光通訊生產(chǎn),測試儀器的批發(fā)等產(chǎn)品的產(chǎn)量居世界前列,實驗分析儀器等中產(chǎn)品的市場占比不斷上升,行業(yè)技術(shù)上總體已達到的中等國際水平,少數(shù)產(chǎn)品接近或達到當前較高國際水平。在國民經(jīng)濟運行中,磁記錄、半導(dǎo)體、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā)、進出口、傭金代理(拍賣除外)及其相關(guān)配套服務(wù),國際貿(mào)易、轉(zhuǎn)口貿(mào)易,商務(wù)信息咨詢服務(wù)。 【依法須經(jīng)批準的項目,經(jīng)相關(guān)部門批準后方可開展經(jīng)營活動】磁記錄、半導(dǎo)體、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā)、進出口、傭金代理(拍賣除外)及其相關(guān)配套服務(wù),國際貿(mào)易、轉(zhuǎn)口貿(mào)易,商務(wù)信息咨詢服務(wù)。 【依法須經(jīng)批準的項目,經(jīng)相關(guān)部門批準后方可開展經(jīng)營活動】等設(shè)備是提高勞動生產(chǎn)率的倍增器,對國民經(jīng)濟有著巨大的作用和影響力。美國商業(yè)部地區(qū)技術(shù)和標準研究院(NIST)提出的報告稱:美國90年代儀器儀表工業(yè)產(chǎn)值只占工業(yè)總產(chǎn)值的4%,但它對國民經(jīng)濟(GNP)的影響面卻達到66%。盡管在我國相關(guān)政策的引導(dǎo)和支持下,我國儀器儀表行業(yè)得到了飛速發(fā)展。但是從銷售整體上看,我國的儀器儀表行業(yè)還是落后于國際水平的。重點技術(shù)缺乏、高精尖產(chǎn)品嚴重依賴進口、儀器儀表產(chǎn)品同質(zhì)化嚴重、生產(chǎn)工藝落后、研發(fā)能力弱、精度不高等問題的凸顯,為儀器儀表行業(yè)的發(fā)展帶來了嚴峻的挑戰(zhàn)。Filmetrics F32膜厚儀可以試用嗎
岱美儀器技術(shù)服務(wù)(上海)有限公司專注技術(shù)創(chuàng)新和產(chǎn)品研發(fā),發(fā)展規(guī)模團隊不斷壯大。目前我公司在職員工以90后為主,是一個有活力有能力有創(chuàng)新精神的團隊。誠實、守信是對企業(yè)的經(jīng)營要求,也是我們做人的基本準則。公司致力于打造***的磁記錄,半導(dǎo)體,光通訊生產(chǎn),測試儀器的批發(fā)。一直以來公司堅持以客戶為中心、磁記錄,半導(dǎo)體,光通訊生產(chǎn),測試儀器的批發(fā)市場為導(dǎo)向,重信譽,保質(zhì)量,想客戶之所想,急用戶之所急,全力以赴滿足客戶的一切需要。