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安徽晶圓片納米壓印

來源: 發(fā)布時間:2020-02-10

EVG ® 770特征:

微透鏡用于晶片級光學器件的高 效率制造主下降到納米結構為SmartNIL ®

簡單實施不同種類的大師

可變抗蝕劑分配模式

分配,壓印和脫模過程中的實時圖像

用于壓印和脫模的原位力控制

可選的光學楔形誤差補償

可選的自動盒帶間處理


EVG ® 770技術數(shù)據(jù):

晶圓直徑(基板尺寸):100至300毫米

解析度:≤50 nm(分辨率取決于模板和工藝)

支持流程:柔軟的UV-NIL

曝光源:大功率LED(i線)> 100 mW /cm2

對準:頂側顯微鏡,用于實時重疊校準≤±500 nm和精細校準≤±300 nm

較早印刷模具到模具的放置精度:≤1微米

有效印記區(qū)域:長達50 x 50毫米

自動分離:支持的


前處理:涂層:液滴分配(可選)


SmartNIL的主要技術是可以提供低至40 nm或更小的出色的共形烙印結果。安徽晶圓片納米壓印

HERCULES ® NIL特征:

全自動UV-NIL壓印和低力剝離

**多300毫米的基材

完全模塊化的平臺,具有多達八個可交換過程模塊(壓印和預處理)

200毫米/ 300毫米橋接工具能力

全區(qū)域烙印覆蓋

批量生產(chǎn)**小40 nm或更小的結構

支持各種結構尺寸和形狀,包括3D

適用于高地形(粗糙)表面

*分辨率取決于過程和模板


HERCULES ® NIL技術數(shù)據(jù):

晶圓直徑(基板尺寸):100至200毫米/ 200和300毫米

解析度:≤40 nm(分辨率取決于模板和工藝)

支持流程:SmartNIL ®

曝光源:大功率LED(i線)> 400 mW /cm2

對準:≤±3微米

自動分離:支持的

前處理:提供所有預處理模塊

迷你環(huán)境和氣候控制:可選的

工作印章制作:支持的


本地納米壓印保修期多久EV Group提供混合和單片微透鏡成型工藝,能夠輕松地適應各種材料組合,以用于工作印模和微透鏡材料。

SmartNIL技術簡介

SmartNIL是基于紫外線曝光的全域型壓印技術,可提供功能強大的下一代光刻技術,幾乎具有無限的結構尺寸和幾何形狀功能。由于SmartNIL集成了多次使用的軟標記處理功能,因此還可以實現(xiàn)****的吞吐量,并具有顯著的擁有成本的優(yōu)勢,同時保留了可擴展性和易于維護的操作功能。另外,主模板的壽命延長到與用于光刻的掩模相當?shù)臅r間。岱美作為EVG在中國區(qū)的代理商,歡迎各位聯(lián)系我們,探討納米壓印光刻的相關知識。我們愿意與您共同進步。


    在EVG的NILPhotonics?解決方案支援中心,雙方合作研發(fā)用于制造光學傳感器的新材料,以及適用于大眾化市場的晶圓級光學元件。(奧地利)與WINDACH(德國),2019年11月27日――EV集團(EVG)這一全球**的為微機電系統(tǒng)、納米技術與半導體市場提供晶圓鍵合與光刻設備的供應商,***宣布與高科技工業(yè)粘合劑制造商DELO在晶圓級光學元件(WLO)領域開展合作。這兩家公司均在光學傳感器制造領域處于**地位。它們的合作將充分利用EVG的透鏡注塑成型與納米壓印光刻(NIL)加工設備與DELO先進的粘合劑與抗蝕材料,在工業(yè),汽車,消費類電子產(chǎn)品市場開發(fā)與應用新型光學設備,例如生物特征身份認證,面部識別。目前雙方正在EVG的NILPhotonics?解決方案支援中心(位于EVG總部,奧地利Florian)以及DELO在德國Windach的總部展開合作。雙方致力于改善與加快材料研發(fā)周期。EVG的NILPhotonics解決方案支援中心為NIL供應鏈的客戶與合作伙伴提供了開放的創(chuàng)新孵化器,旨在通過合作來縮短創(chuàng)新設備與應用的研發(fā)與推廣周期。該中心的基礎設施包括**技術的潔凈室與支持NIL制造的主要步驟的設備,例如分步重復母版,透鏡模制,以及EVG的SmartNIL?技術,晶圓鍵合與必要的測量設備。EVG620 NT支持多種標準光刻工藝,例如真空,軟,硬和接近曝光模式,以及背面對準選項。

EVG ® 6200 NT特征:

頂部和底部對準能力

高精度對準臺

自動楔形補償序列

電動和程序控制的曝光間隙

支持***的UV-LED技術

**小化系統(tǒng)占地面積和設施要求

分步流程指導

遠程技術支持

多用戶概念(無限數(shù)量的用戶帳戶和程序,可分配的訪問權限,不同的用戶界面語言)

敏捷處理和轉換工具

臺式或帶防震花崗巖臺的單機版


EVG ® 6200 NT附加功能:

鍵對準

紅外對準

智能NIL ®

μ接觸印刷技術數(shù)據(jù)

晶圓直徑(基板尺寸)

標準光刻:75至200 mm

柔軟的UV-NIL:75至200毫米

SmartNIL ®:**多至150mm

解析度:≤40 nm(分辨率取決于模板和工藝)

支持流程:軟UV-NIL&SmartNIL

®


曝光源:汞光源或紫外線LED光源

對準:軟NIL:≤±0.5 μm;SmartNIL ®:≤±3微米

自動分離:柔紫外線NIL:不支持;SmartNIL

®:支持


工作印章制作:柔軟的UV-NIL:外部;SmartNIL ®:支持


NIL已被證明是在大面積上實現(xiàn)納米級圖案的相當有成本效益的方法。CMOS納米壓印三維芯片應用

EVG?610/EVG?620NT /EVG?6200NT是具有紫外線納米壓印功能的通用掩模對準系統(tǒng)。安徽晶圓片納米壓印

HERCULES NIL 300 mm提供了市場上**的納米壓印功能,具有較低的力和保形壓印,快速的高功率曝光和平滑的壓模分離。該系統(tǒng)支持各種設備和應用程序的生產(chǎn),包括用于增強/虛擬現(xiàn)實(AR / VR)頭戴式耳機的光學設備,3D傳感器,生物醫(yī)學設備,納米光子學和等離激元學。


HERCULES ® NIL特征:

全自動UV-NIL壓印和低力剝離

**多300毫米的基材

完全模塊化的平臺,具有多達八個可交換過程模塊(壓印和預處理)

200毫米/ 300毫米橋接工具能力

全區(qū)域烙印覆蓋

批量生產(chǎn)**小40 nm或更小的結構

支持各種結構尺寸和形狀,包括3D

適用于高地形(粗糙)表面

*分辨率取決于過程和模板


安徽晶圓片納米壓印

岱美儀器技術服務(上海)有限公司專注技術創(chuàng)新和產(chǎn)品研發(fā),發(fā)展規(guī)模團隊不斷壯大。一批專業(yè)的技術團隊,是實現(xiàn)企業(yè)戰(zhàn)略目標的基礎,是企業(yè)持續(xù)發(fā)展的動力。公司以誠信為本,業(yè)務領域涵蓋磁記錄,半導體,光通訊生產(chǎn),測試儀器的批發(fā),我們本著對客戶負責,對員工負責,更是對公司發(fā)展負責的態(tài)度,爭取做到讓每位客戶滿意。公司深耕磁記錄,半導體,光通訊生產(chǎn),測試儀器的批發(fā),正積蓄著更大的能量,向更廣闊的空間、更寬泛的領域拓展。