EVG ® 770特征：

微透鏡用于晶片級光學(xué)器件的高 效率制造主下降到納米結(jié)構(gòu)為SmartNIL ®

簡單實施不同種類的大師

可變抗蝕劑分配模式

分配，壓印和脫模過程中的實時圖像

用于壓印和脫模的原位力控制

可選的光學(xué)楔形誤差補償

可選的自動盒帶間處理

EVG ® 770技術(shù)數(shù)據(jù)：

晶圓直徑（基板尺寸）：100至300毫米

解析度：≤50 nm（分辨率取決于模板和工藝）

支持流程：柔軟的UV-NIL

曝光源：大功率LED（i線）> 100 mW /cm2

對準(zhǔn)：頂側(cè)顯微鏡，用于實時重疊校準(zhǔn)≤±500 nm和精細校準(zhǔn)≤±300 nm

較早印刷模具到模具的放置精度：≤1微米

有效印記區(qū)域：長達50 x 50毫米

自動分離：支持的

前處理：涂層：液滴分配（可選）

SmartNIL的主要技術(shù)是可以提供低至40 nm或更小的出色的共形烙印結(jié)果。安徽晶圓片納米壓印

HERCULES ® NIL特征：

全自動UV-NIL壓印和低力剝離

**多300毫米的基材

完全模塊化的平臺，具有多達八個可交換過程模塊（壓印和預(yù)處理）

200毫米/ 300毫米橋接工具能力

全區(qū)域烙印覆蓋

批量生產(chǎn)**小40 nm或更小的結(jié)構(gòu)

支持各種結(jié)構(gòu)尺寸和形狀，包括3D

適用于高地形（粗糙）表面

*分辨率取決于過程和模板

HERCULES ® NIL技術(shù)數(shù)據(jù)：

晶圓直徑（基板尺寸）：100至200毫米/ 200和300毫米

解析度：≤40 nm（分辨率取決于模板和工藝）

支持流程：SmartNIL ®

曝光源：大功率LED（i線）> 400 mW /cm2

對準(zhǔn)：≤±3微米

自動分離：支持的

前處理：提供所有預(yù)處理模塊

迷你環(huán)境和氣候控制：可選的

工作印章制作：支持的

本地納米壓印保修期多久EV Group提供混合和單片微透鏡成型工藝，能夠輕松地適應(yīng)各種材料組合，以用于工作印模和微透鏡材料。

SmartNIL技術(shù)簡介

SmartNIL是基于紫外線曝光的全域型壓印技術(shù)，可提供功能強大的下一代光刻技術(shù)，幾乎具有無限的結(jié)構(gòu)尺寸和幾何形狀功能。由于SmartNIL集成了多次使用的軟標(biāo)記處理功能，因此還可以實現(xiàn)****的吞吐量，并具有顯著的擁有成本的優(yōu)勢，同時保留了可擴展性和易于維護的操作功能。另外，主模板的壽命延長到與用于光刻的掩模相當(dāng)?shù)臅r間。岱美作為EVG在中國區(qū)的代理商，歡迎各位聯(lián)系我們，探討納米壓印光刻的相關(guān)知識。我們愿意與您共同進步。

    在EVG的NILPhotonics?解決方案支援中心，雙方合作研發(fā)用于制造光學(xué)傳感器的新材料，以及適用于大眾化市場的晶圓級光學(xué)元件。（奧地利）與WINDACH（德國），2019年11月27日――EV集團(EVG)這一全球**的為微機電系統(tǒng)、納米技術(shù)與半導(dǎo)體市場提供晶圓鍵合與光刻設(shè)備的供應(yīng)商，***宣布與高科技工業(yè)粘合劑制造商DELO在晶圓級光學(xué)元件(WLO)領(lǐng)域開展合作。這兩家公司均在光學(xué)傳感器制造領(lǐng)域處于**地位。它們的合作將充分利用EVG的透鏡注塑成型與納米壓印光刻(NIL)加工設(shè)備與DELO先進的粘合劑與抗蝕材料，在工業(yè)，汽車，消費類電子產(chǎn)品市場開發(fā)與應(yīng)用新型光學(xué)設(shè)備，例如生物特征身份認(rèn)證，面部識別。目前雙方正在EVG的NILPhotonics?解決方案支援中心（位于EVG總部，奧地利Florian）以及DELO在德國Windach的總部展開合作。雙方致力于改善與加快材料研發(fā)周期。EVG的NILPhotonics解決方案支援中心為NIL供應(yīng)鏈的客戶與合作伙伴提供了開放的創(chuàng)新孵化器，旨在通過合作來縮短創(chuàng)新設(shè)備與應(yīng)用的研發(fā)與推廣周期。該中心的基礎(chǔ)設(shè)施包括**技術(shù)的潔凈室與支持NIL制造的主要步驟的設(shè)備，例如分步重復(fù)母版，透鏡模制，以及EVG的SmartNIL?技術(shù)，晶圓鍵合與必要的測量設(shè)備。EVG620 NT支持多種標(biāo)準(zhǔn)光刻工藝，例如真空，軟，硬和接近曝光模式，以及背面對準(zhǔn)選項。

EVG ® 6200 NT特征：

頂部和底部對準(zhǔn)能力

高精度對準(zhǔn)臺

自動楔形補償序列

電動和程序控制的曝光間隙

支持***的UV-LED技術(shù)

**小化系統(tǒng)占地面積和設(shè)施要求

分步流程指導(dǎo)

遠程技術(shù)支持

多用戶概念（無限數(shù)量的用戶帳戶和程序，可分配的訪問權(quán)限，不同的用戶界面語言）

敏捷處理和轉(zhuǎn)換工具

臺式或帶防震花崗巖臺的單機版

EVG ® 6200 NT附加功能：

鍵對準(zhǔn)

紅外對準(zhǔn)

智能NIL ®

μ接觸印刷技術(shù)數(shù)據(jù)

晶圓直徑（基板尺寸）

標(biāo)準(zhǔn)光刻：75至200 mm

柔軟的UV-NIL：75至200毫米

SmartNIL ®：**多至150mm

解析度：≤40 nm（分辨率取決于模板和工藝）

支持流程：軟UV-NIL＆SmartNIL

®

曝光源：汞光源或紫外線LED光源

對準(zhǔn)：軟NIL：≤±0.5 μm；SmartNIL ®：≤±3微米

自動分離：柔紫外線NIL：不支持；SmartNIL

®：支持

工作印章制作：柔軟的UV-NIL：外部；SmartNIL ®：支持

NIL已被證明是在大面積上實現(xiàn)納米級圖案的相當(dāng)有成本效益的方法。CMOS納米壓印三維芯片應(yīng)用

EVG?610/EVG?620NT /EVG?6200NT是具有紫外線納米壓印功能的通用掩模對準(zhǔn)系統(tǒng)。安徽晶圓片納米壓印

HERCULES NIL 300 mm提供了市場上**的納米壓印功能，具有較低的力和保形壓印，快速的高功率曝光和平滑的壓模分離。該系統(tǒng)支持各種設(shè)備和應(yīng)用程序的生產(chǎn)，包括用于增強/虛擬現(xiàn)實（AR / VR）頭戴式耳機的光學(xué)設(shè)備，3D傳感器，生物醫(yī)學(xué)設(shè)備，納米光子學(xué)和等離激元學(xué)。

HERCULES ® NIL特征：

全自動UV-NIL壓印和低力剝離

**多300毫米的基材

完全模塊化的平臺，具有多達八個可交換過程模塊（壓印和預(yù)處理）

200毫米/ 300毫米橋接工具能力

全區(qū)域烙印覆蓋

批量生產(chǎn)**小40 nm或更小的結(jié)構(gòu)

支持各種結(jié)構(gòu)尺寸和形狀，包括3D

適用于高地形（粗糙）表面

*分辨率取決于過程和模板

安徽晶圓片納米壓印

岱美儀器技術(shù)服務(wù)（上海）有限公司專注技術(shù)創(chuàng)新和產(chǎn)品研發(fā)，發(fā)展規(guī)模團隊不斷壯大。一批專業(yè)的技術(shù)團隊，是實現(xiàn)企業(yè)戰(zhàn)略目標(biāo)的基礎(chǔ)，是企業(yè)持續(xù)發(fā)展的動力。公司以誠信為本，業(yè)務(wù)領(lǐng)域涵蓋磁記錄，半導(dǎo)體，光通訊生產(chǎn)，測試儀器的批發(fā)，我們本著對客戶負(fù)責(zé)，對員工負(fù)責(zé)，更是對公司發(fā)展負(fù)責(zé)的態(tài)度，爭取做到讓每位客戶滿意。公司深耕磁記錄，半導(dǎo)體，光通訊生產(chǎn)，測試儀器的批發(fā)，正積蓄著更大的能量，向更廣闊的空間、更寬泛的領(lǐng)域拓展。