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Filmetrics F54膜厚儀美元報價

來源: 發(fā)布時間:2019-12-29

光源用于一般用途應(yīng)用之光源

***T2可用在Filmetrics設(shè)備的光源具有氘燈-鎢絲與遠(yuǎn)端控制的快門來取代舊款Hamamatsu D2光源LS-LED1具有高亮度白光LED的光源

光纖配件:CP-RepairToolKitCP-1-1.3 接觸探頭是相當(dāng)堅(jiān)固的,但是光纖不能經(jīng)常被抽屜碰撞或者被椅子壓過。該套件包括指令,以及簡單的維修工具,新的和舊風(fēng)格的探頭。FO-PAT-SMA-SMA-200-22 米長,直徑 200um 的光纖, 兩端配備 SMA 接頭。FO-RP1-.25-SMA-200-1.32 米長,分叉反射探頭。 基本上所有光滑的、半透明的或低吸收系數(shù)的薄膜都可以測量。Filmetrics F54膜厚儀美元報價

FSM 413SP

AND FSM 413C2C 紅外干涉測量設(shè)備

適用于所有可讓紅外線通過的材料:硅、藍(lán)寶石、砷化鎵、磷化銦、碳化硅、玻璃、石  英、聚合物…………


應(yīng)用:

   襯底厚度(不受圖案硅片、有膠帶、凹凸或者粘合硅片影響)

   平整度

   厚度變化 (TTV)

   溝槽深度

   過孔尺寸、深度、側(cè)壁角度

   粗糙度

薄膜厚度

不同半導(dǎo)體材料的厚度

   環(huán)氧樹脂厚度

   襯底翹曲度

   晶圓凸點(diǎn)高度(bump height)

MEMS 薄膜測量

TSV 深度、側(cè)壁角度...

FSM413SP半自動機(jī)臺人工取放芯片

Wafer 厚度3D圖形

FSM413C2C Fully

automatic 全自動機(jī)臺人工取放芯片

可適配Cassette、SMIF POD、FOUP.

臺積電膜厚儀技術(shù)支持F40-EXR范圍:20nm-120μm;波長:400-1700nm。

    光纖紫外線、可見光譜和近紅外備用光纖。接觸探頭是相當(dāng)堅(jiān)固的,但是光纖不能經(jīng)常被抽屜碰撞或者被椅子壓過。該套件包括指令,以及簡單的維修工具,新的和舊風(fēng)格的探頭。FO-PAT-SMA-SMA-200-22米長,直徑200um的光纖,兩端配備SMA接頭。米長,分叉反射探頭。

通用附件攜帶箱等。手提電腦手提電腦預(yù)裝FILMeasure軟件、XP和Microsoft辦公軟件。

電腦提箱用于攜帶F10、F20、F30和F40系統(tǒng)的提箱。ConflatFeedthrough真空穿通,"conflat、雙出入孔SMA,并通過泄漏測試。LensPaper-CenterHole**開孔鏡頭紙,用于保護(hù)面朝下的樣品,5本各100張。

接觸探頭測量彎曲和難測的表面

CP-1-1.3測量平面或球形樣品,結(jié)實(shí)耐用的不銹鋼單線圈。

CP-1-AR-1.3可以抑 制背面反射,對 1.5mm 厚的基板可抑 制 96%。 鋼制單線圈外加PVC涂層,比較大可測厚度 15um。

CP-2-1.3用于探入更小的凹表面,直徑 17.5mm。

CP-C6-1.3探測直徑小至 6mm 的圓柱形和球形樣品外側(cè)。

CP-C12-1.3用于直徑小至 12mm 圓柱形和球形樣品外側(cè)。

CP-C26-1.3用于直徑小至 26mm 圓柱形和球形樣品外側(cè)。

CP-BendingRod-L350-2彎曲長度 300mm,總長度 350mm 的接觸探頭。 用于難以到達(dá)的區(qū)域,但不會自動對準(zhǔn)表面。

CP-ID-0to90Deg-2用于食品和飲料罐頭內(nèi)壁的接觸探頭。

CP-RA-3mmDia-200mmL-2直徑**小的接觸探頭,配備微型直角反射鏡,用來測量小至直徑 3mm 管子的內(nèi)壁,不能自動對準(zhǔn)表面。

CP-RA-10mmHigh-2配備微型直角反射鏡,可以在相隔 10mm 的兩個平坦表面之間進(jìn)行測量。 F3-sX系列使用近紅外光來測量薄膜厚度,即使有許多肉眼看來不透光(例如半導(dǎo)體)。

F30 系列監(jiān)控薄膜沉積,**強(qiáng)有力的工具F30 光譜反射率系統(tǒng)能實(shí)時測量沉積率、沉積層厚度、光學(xué)常數(shù) (n 和 k 值) 和半導(dǎo)體以及電介質(zhì)層的均勻性。

樣品層分子束外延和金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積: 可以測量平滑和半透明的,或輕度吸收的薄膜。 這實(shí)際上包括從氮化鎵鋁到鎵銦磷砷的任何半導(dǎo)體材料。

各項(xiàng)優(yōu)點(diǎn):極大地提高生產(chǎn)力低成本 —幾個月就能收回成本A精確 — 測量精度高于 ±1%快速 — 幾秒鐘完成測量非侵入式 — 完全在沉積室以外進(jìn)行測試易于使用 — 直觀的 Windows? 軟件幾分鐘就能準(zhǔn)備好的系統(tǒng)

型號厚度范圍*波長范圍

F30:15nm-70μm 380-1050nm

F30-EXR:15nm - 250μm 380-1700nm

F30-NIR:100nm - 250μm 950-1700nm

F30-UV:3nm-40μm 190-1100nm

F30-UVX:3nm - 250μm 190-1700nm

F30-XT:0.2μm - 450μm1440-1690nm Filmetrics 提供一系列的和測繪系統(tǒng)來測量 3nm 到 1mm 的單層、 多層、 以及單獨(dú)的光刻膠薄膜。Filmetrics F10-RT膜厚儀質(zhì)保期多久

F50-EXR測厚范圍:20nm-250μm;波長:380-1700nm。Filmetrics F54膜厚儀美元報價

電介質(zhì)成千上萬的電解質(zhì)薄膜被用于光學(xué),半導(dǎo)體,以及其它數(shù)十個行業(yè), 而Filmetrics的儀器幾乎可以測量所有的薄膜。常見的電介質(zhì)有:二氧化硅 – **簡單的材料之一, 主要是因?yàn)樗诖蟛糠止庾V上的無吸收性 (k=0), 而且非常接近化學(xué)計量 (就是說,硅:氧非常接近 1:2)。 受熱生長的二氧化硅對光譜反應(yīng)規(guī)范,通常被用來做厚度和折射率標(biāo)準(zhǔn)。 Filmetrics能測量3nm到1mm的二氧化硅厚度。氮化硅 – 對此薄膜的測量比很多電介質(zhì)困難,因?yàn)楣瑁旱嚷释ǔ2皇?:4, 而且折射率一般要與薄膜厚度同時測量。 更麻煩的是,氧常常滲入薄膜,生成一定程度的氮氧化硅,增大測量難度。 但是幸運(yùn)的是,我們的系統(tǒng)能在幾秒鐘內(nèi) “一鍵” 測量氮化硅薄膜完整特征!Filmetrics F54膜厚儀美元報價

岱美儀器技術(shù)服務(wù)(上海)有限公司是一家其他型類企業(yè),積極探索行業(yè)發(fā)展,努力實(shí)現(xiàn)產(chǎn)品創(chuàng)新。是一家有限責(zé)任公司企業(yè),隨著市場的發(fā)展和生產(chǎn)的需求,與多家企業(yè)合作研究,在原有產(chǎn)品的基礎(chǔ)上經(jīng)過不斷改進(jìn),追求新型,在強(qiáng)化內(nèi)部管理,完善結(jié)構(gòu)調(diào)整的同時,良好的質(zhì)量、合理的價格、完善的服務(wù),在業(yè)界受到寬泛好評。公司擁有專業(yè)的技術(shù)團(tuán)隊(duì),具有磁記錄,半導(dǎo)體,光通訊生產(chǎn),測試儀器的批發(fā)等多項(xiàng)業(yè)務(wù)。岱美儀器技術(shù)服務(wù)以創(chuàng)造***產(chǎn)品及服務(wù)的理念,打造高指標(biāo)的服務(wù),引導(dǎo)行業(yè)的發(fā)展。