42.TiN的能帶結(jié)構(gòu)和態(tài)密度TiN屬于面心立方結(jié)構(gòu)，晶格中參與成鍵的價電子有過渡族金屬Ti的3d24s2和N的2p3。通過采用綴加平面波方法和靠前性原理計算可以得出TiN的能帶結(jié)構(gòu)和態(tài)密度，進而計算出材料中電子的填充態(tài)和未填充態(tài)，再根據(jù)躍遷的選擇定則，計算出躍遷矩陣元和吸收系數(shù)，從而得到介電函數(shù)的虛部;再根據(jù)Kramers-Kronig變換關(guān)系就可得出介電函數(shù)的實部，據(jù)Maxwell關(guān)系式就可以確定材料的折射率和消光系數(shù)。所以分材料的能帶結(jié)構(gòu)和態(tài)密度對材料光學(xué)性質(zhì)的影響就顯得非常重要。400℃下制備的碳摻雜氮化鈦涂層(C-TiN-400℃),其導(dǎo)電性與耐蝕性均得到明顯提升。杭州鍍鈦氮化鈦功能

50. 用TiN 薄膜涂覆在IF—MS2上?？梢蕴岣叨f化硫潤滑劑的耐磨性。用TIN 薄膜涂覆在IF—MS2上，因為它具有的高硬度、高熔點、高磨損抵抗力，優(yōu)良的化學(xué)穩(wěn)定性等特點，因此可以在提高飛機和航天器的發(fā)動機等零件的潤滑性能的同時，又可以保證航天零件的耐高溫和耐摩擦性能。TiN 薄膜用于高溫大氣穩(wěn)定太陽能吸收層的研究開始于1984年，較為近(Ti，A1)N 涂層也被建議應(yīng)用于太陽能選擇吸收層和太陽能控制窗口，這主要是因為(Ti，AI)N 涂層耐高溫的特點。關(guān)于TiN和TiA1N 涂層在太陽能領(lǐng)域的應(yīng)用。煙臺氮化鈦服務(wù)電話TiN有著誘人的金黃色、熔點高、硬度大、化學(xué)穩(wěn)定性好、與金屬的潤濕小的結(jié)構(gòu)材料、并具有導(dǎo)電性和超導(dǎo)性。

40、氮化鈦（TiN）具有典型的NaCl型結(jié)構(gòu)，屬面心立方點陣，晶格常數(shù)a=0.4241nm，其中鈦原子位于面心立方的角頂。TiN是非化學(xué)計量化合物，其穩(wěn)定的組成范圍為TiN0.37-TiN1.16，氮的含量可以在一定的范圍內(nèi)變化而不引起TiN結(jié)構(gòu)的變化。TiN粉末一般呈黃褐色，超細TiN粉末呈黑色，而TiN晶體呈金黃色。TiN熔點為2950℃，密度為5.43-5.44g/cm3，莫氏硬度8-9，抗熱沖擊性好。TiN熔點比大多數(shù)過渡金屬氮化物的熔點高，而密度卻比大多數(shù)金屬氮化物低，因此是一種很有特色的耐熱材料。TiN的晶體結(jié)構(gòu)與TiC的晶體結(jié)構(gòu)相似，只是將其中的C原子置換成N原子。

TiN 中文名稱氮化鈦薄膜可以減輕切削刃邊材料的附著，提高切削力，改善工件的表面質(zhì)量，成倍增加切削工具的使用壽命和耐用度。因此，TiN 薄膜被適合用于低速切削工具、高速鋼切削、木板切削刀具和鉆頭的涂覆上。另外，TiN也是磨損部件的理想耐磨涂層，特別是由于其低的黏著傾向拓寬了在許多磨損系統(tǒng)中的應(yīng)用，如汽車發(fā)動機的活塞密封環(huán)、各種軸承和齒輪等：此外，TiN還廣泛應(yīng)用于成型技術(shù)工具涂層，如汽車工業(yè)中薄板成型工具的涂層等。調(diào)整氮化鈦中氮元素的百分含量，可以改變氮化鈦薄膜的顏色，從而達到理想的美觀效果。

TiN 薄膜的研究工作早在20世紀60年代已開始進行，但因材料和器件制備上的困難，使研究工作一度轉(zhuǎn)入低潮。后來隨著薄膜制備技術(shù)的提高，國內(nèi)外對TiN薄膜的研究工作又開始活躍起來，制備方法也多樣化了，目前已取得很大進展。TiN薄膜的制備方法主要可分為物理物物理相沉積、化學(xué)氣相沉積兩大類。應(yīng)用于工業(yè)的各個領(lǐng)域。

TiN 薄膜無毒、質(zhì)輕、強度高且具有優(yōu)良的生物相容性，因此它是非常理想的醫(yī)用金屬材料，可用作植入人體的植入物和手術(shù)器械等閻。此外，氮化鈦薄膜還能作為其他優(yōu)良生物相溶性薄膜的增強薄膜。國外的Nelea等人通過鍍制TiN 薄膜中間層大幅度提高了醫(yī)用常用材料羥磷灰石薄膜(HA)的機械性能和附著力。 我國對氮化鈦涂層刀具的使用起步較晚，但已有不少廠家開始推廣使用，經(jīng)濟效益極為可觀。煙臺潤滑氮化鈦加工

國際上代金裝飾技術(shù)發(fā)展相當快氮化鈦在這方面的應(yīng)用具有十分廣闊的前景。杭州鍍鈦氮化鈦功能

目前，國內(nèi)外制備氮化鈦涂層一般采用鍍膜工藝，傳統(tǒng)制備tin涂層方法為物物理相沉積(pvd)和化學(xué)氣相沉積(cvd)工藝。這些方法制備氮化鈦涂層純度高、致密性好。但其沉積效率低，涂層厚度過薄(適合幾個μm)，嚴重限制了氮化鈦涂層在磨、蝕服役條件下的應(yīng)用。為滿足不斷提高的氮化鈦工業(yè)需求，高沉積效率的等離子噴涂工藝被用于氮化鈦涂層的制備。采用大氣反應(yīng)等離子噴涂制備的tin涂層，厚度超過了500μm，但涂層疏松多孔，且含有雜質(zhì)ti3o，一定程度上降低了tin涂層硬度。隨著等離子噴涂技術(shù)不斷發(fā)展，采用低壓反應(yīng)等離子噴涂技術(shù)(f4-vb)制備了氮化鈦涂層，涂層呈致密層狀結(jié)構(gòu)，厚度能夠達到70μm左右，但是其涂層物相組成為tin0.3、ti2n和tin相，涂層中存在未被氮化的鈦顆粒，涂層氮化率適合為25％左右，影響tin涂層的硬度及耐磨性。因此，如何提高低壓等離子噴涂制備氮化鈦涂層中的涂層氮化率是亟需解決的問題。杭州鍍鈦氮化鈦功能

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