【光學(xué)鍍膜在航天上的應(yīng)用】在科學(xué)衛(wèi)星表面上鍍鋁和氧化硅膜，衛(wèi)星的溫度可控制在10～40℃范圍?？臻g飛行器的主要能源是硅太陽能電池，通常在太陽能電池的熔石英蓋片上淀積熱性能控制濾光片。該濾光片只允許透過可轉(zhuǎn)變成電能的太陽可見光和近紅外區(qū)的輻射，反射有害的紅外區(qū)熱量。 新一代氣象衛(wèi)星對紅外帶通濾光片的光譜控制提出了很高的要求，對濾光片片的指標(biāo)要求并非簡單的數(shù)值指標(biāo)，而是一個由內(nèi)框和外框組成的框圖，氣象衛(wèi)星的光學(xué)遙感儀器通常利用多個紅外光譜通道進(jìn)行探測，3.5～4.0ptm是*為常用的光譜通道之一。為了提高儀器的光譜信噪比，提升對目標(biāo)的探測與識別能力，濾光片的光譜控制水平是一關(guān)鍵因素。對帶通膜系中反射膜層的光學(xué)厚度進(jìn)行了優(yōu)化調(diào)整，壓縮了通帶內(nèi)的波紋，根據(jù)膜層材料的折射率－溫度變化特性，設(shè)計出了低溫條件下符合光譜要求的帶通濾光片。 在航空航天等jun用領(lǐng)域中，存在強(qiáng)光和電磁干擾等環(huán)境影響因素，為了使顯示器能夠在這種惡劣環(huán)境下穩(wěn)定可靠工作，需要對顯示器進(jìn)行AR/EMI(減反射/電磁屏蔽)加固。對ITO(氧化銦錫)電磁屏蔽層與AR(減反)膜系進(jìn)行綜合設(shè)計。 國產(chǎn)光學(xué)鍍膜機(jī)哪家好？山東otfc光學(xué)鍍膜機(jī)

【光學(xué)真空鍍膜之電子qiang蒸鍍系統(tǒng)注意事項】 光學(xué)真空鍍膜機(jī)電子qiang蒸鍍法比傳統(tǒng)熱電阻式加熱法的熱轉(zhuǎn)換效率高而秏能少,對蒸鍍材料的選擇方面受限較少。以純元素之蒸鍍而言,電阻式蒸鍍受限于加熱溫度,多半只從事鋁、鉻、金、銀等少數(shù)幾種薄膜，電子束蒸鍍則可制鍍高熔點(diǎn)材料如鎢、鉬等金屬和活性甚強(qiáng)的鈦、鈮等金屬,即便是很難使用濺鍍技術(shù)制備的磁性材料如鐵、鈷、鎳等金屬,亦能夠蒸鍍出品質(zhì)良好的薄膜。為了顧及薄膜純度,在操作技巧上純元素之蒸鍍通常采取高真空度與高蒸鍍速率的鍍膜條件。化合物材料如氧化物、硫化物、氮化物及氟化物等皆可使用電子qiang蒸鍍方式,部份材料在被電子束加熱蒸發(fā)過程中會因高熱而發(fā)生解離現(xiàn)象,這也是蒸鍍法的主要缺點(diǎn),通常是采用反應(yīng)式蒸鍍方式解決,為了確保薄膜形成時缺乏的部份能利用基板高溫在反應(yīng)過程將其補(bǔ)足,在操作上鍍膜速率必須適切地降低。部分屬于絕緣性的化合物在連續(xù)被電子轟擊時會有負(fù)電荷累積問題,使得后續(xù)電子受負(fù)電位排斥而無法完全抵達(dá)待鍍材料表面,因此坩堝座在電路設(shè)計上是使其呈接地電位,以協(xié)助累積之負(fù)電荷順利導(dǎo)出,這在小型坩堝是相當(dāng)有效,但對大型坩堝則很難避免有些許鍍膜速率不穩(wěn)定情形。 山東otfc光學(xué)鍍膜機(jī)光學(xué)鍍膜機(jī)品牌排行。

【光學(xué)鍍膜之減反射膜技術(shù)】 1）鍍膜前準(zhǔn)備：鏡片在接受鍍膜前必須進(jìn)行分子級的預(yù)清洗。在清洗槽中分別放置各種清洗液，并采用超聲波加強(qiáng)清洗效果，當(dāng)鏡片清洗完后，放進(jìn)真空艙內(nèi)，在此過程中要特別注意避免空氣中的灰塵和垃圾再黏附在鏡片表面。*后的清洗是在真空艙內(nèi)，在此過程中要特別注意避免空氣中的灰塵和垃圾再黏附在鏡片表面。*后的清洗是在真空艙內(nèi)鍍前進(jìn)行的，放置在真空艙內(nèi)的離子qiang將轟擊鏡片的表面（例如用氬離子），完成此道清洗工序后即進(jìn)行減反射膜的鍍膜。 2）真空鍍膜：真空蒸發(fā)工藝能夠保證將純質(zhì)的鍍膜材料鍍于鏡片的表面，同時在蒸發(fā)過程中，對鍍膜材料的化學(xué)成分能嚴(yán)密控制。真空蒸發(fā)工藝能夠?qū)τ谀拥暮穸染_控制，精度達(dá)到。 3）膜層牢固性：對眼鏡片而言，膜層的牢固性是至關(guān)重要的，是鏡片重要的質(zhì)量指標(biāo)。鏡片的質(zhì)量指標(biāo)包括鏡片抗磨損、抗文化館、抗溫差等。因此現(xiàn)在有了許多針對性的物理化學(xué)測試方法，在模擬戴鏡者的使用條件下，對鍍膜鏡片進(jìn)行膜層牢度質(zhì)量的測試。這些測試方法包括：鹽水試驗、蒸汽試驗、去離子水試驗、鋼絲絨磨擦試驗、溶解試驗、黏著試驗、溫差試驗和潮濕度試驗等等。

【鍍膜玻璃的主要產(chǎn)生法之化學(xué)沉積法】化學(xué)氣相沉積(chemical vapour deposition, CVD) 是把含有構(gòu)成薄膜元素的一種或幾種化合物或單質(zhì)氣體，供給基板，利用氣相反應(yīng)，在基板表面上反應(yīng)沉積出所需固體薄膜的工藝技術(shù)，該技術(shù)已成為鍍膜玻璃生產(chǎn)的主要制備技術(shù)。 在線CVD法鍍膜技術(shù)，是在浮法玻璃生產(chǎn)過程中，連續(xù)沉積化合物薄膜的CVD工藝技術(shù)，是目前世界上比較先進(jìn)的鍍膜玻璃生產(chǎn)技術(shù)。它是以潔凈、高速牽引(8-15m/min)、高溫(600℃)的浮法玻璃為沉積襯底。換言之，薄膜沉積前，玻璃襯底即將離開錫槽但尚未進(jìn)人退火窯，且未被處理凈化。國外*早采用在線CVD法連續(xù)沉積Sn02薄膜，而我國*早是用該法生產(chǎn)硅質(zhì)鍍膜玻璃。目前，我國已基本掌握了在線CVD法鍍膜技術(shù)，能夠穩(wěn)定地生產(chǎn)硅質(zhì)鍍膜玻璃、在線Low-E玻璃和在線自潔凈玻璃。在線鍍膜玻璃生產(chǎn)線包括：原料→熔窯→錫槽→退火窯→切割→裝箱。 光學(xué)鍍膜機(jī)該如何維修。

【光學(xué)鍍膜機(jī)的維護(hù)與保養(yǎng)之電子qiang頭和坩堝的維護(hù)】電子qiang的qiang頭安裝好壞直接影響到工作的正常進(jìn)行，其發(fā)生的故障有90%同電子qiangqiang頭有關(guān)。 電子qiangqiang頭有使用一段時間后，會因為組件的污染而影響電子束的成型及功率，需要拆卸清潔。 拆坩堝之前，請先關(guān)掉水路用壓縮空氣把電子qiang冷卻管內(nèi)的水分盡可能吹干凈。 蒸發(fā)源裝卸順序：1.拆落兩條冷卻水連接管。2.擰出電子qiangqiang頭連接高壓線兩個螺絲。3.拆坩堝傳動連接座、聯(lián)軸器。4.擰落蒸發(fā)源四個固定螺絲。5.把蒸發(fā)源搬運(yùn)到一個穩(wěn)定平整的工作臺。6.拆落坩堝蓋板四個螺絲，取下蓋板打磨干凈。7.檢查蓋板上面兩個密封圈是否需要更換。8.把蒸發(fā)源反轉(zhuǎn)過來倒置，用木板墊住坩堝部分。9.擰下固定坩堝轉(zhuǎn)動四個螺絲10.抬起蒸發(fā)源，取下坩堝 11.把坩堝倒置，擰下坩堝底蓋的八個螺絲，清洗干凈里面的污垢，檢查是否需要近密封圈。12.擰下導(dǎo)水管的一個螺絲13.擰下坩堝轉(zhuǎn)動機(jī)構(gòu)與坩堝蓋板連接的四個螺絲 14.撥出坩堝轉(zhuǎn)動軸，檢查轉(zhuǎn)動軸的油封是否需要換件 15.把坩堝清潔干凈安裝。安裝按上面的倒過順序來進(jìn)行。 紅外光學(xué)鍍膜機(jī)制造商。四川光學(xué)鍍膜機(jī)的異常分析

光學(xué)鍍膜機(jī)使用時，需要注意哪些問題?山東otfc光學(xué)鍍膜機(jī)

【光學(xué)薄膜新進(jìn)展之太陽能選擇性吸收膜和高功率激光膜】 太陽能選擇性吸收膜：根據(jù)黑體輻射通用曲線可以求得太陽約有98%的輻射能分布在0.17～2.5Lm的光譜范圍，其中有90%的輻射能位于0.4～2.0Lm的可見光、近紅外范圍。隨著人們對太陽能的充分利用，用于太陽能光熱轉(zhuǎn)換的太陽能選擇性吸收膜具有很大的研究價值和廣fan的應(yīng)用前景，引起科研人員的極大興趣。 高功率激光膜：準(zhǔn)分子激光正在廣fan應(yīng)用于分析化學(xué)、光譜學(xué)、半導(dǎo)體工藝、激光泵浦、激光聚變、光化學(xué)、醫(yī)學(xué)和空間技術(shù)等領(lǐng)域。紫外反射鏡是準(zhǔn)分子激光器的重要光學(xué)元件，但所選用的膜料比可見光區(qū)和近紅外區(qū)膜料非常有限，制備工藝特別復(fù)雜。而金屬反射鏡已經(jīng)不能滿足技術(shù)的要求，所以必須研制低損耗的全介質(zhì)反射鏡。 山東otfc光學(xué)鍍膜機(jī)

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