真萍科技電腦式潔凈節(jié)能氮?dú)夤裰饕獞?yīng)用于解決晶圓片的潮濕、氧化及被其它氣體(ex阿摩利亞氣體)破壞,解決探針卡潮濕及氧化問題解決光罩的受潮問題---黃光部封裝的金線,解決液晶的受潮問題,解決線路板受潮問題。下面為大家簡(jiǎn)單介紹一下真萍科技電腦式潔凈節(jié)能氮?dú)夤竦牡獨(dú)獗O(jiān)控系統(tǒng)。1.溫濕度記錄功能:1.2內(nèi)建內(nèi)存,可儲(chǔ)存溫度/濕度,收集時(shí)間1~240分鐘可自行設(shè)定。1.3可利用RS232連接阜下載至計(jì)算機(jī)中讀取。1.4品管記錄格式設(shè)計(jì),有助于內(nèi)部記錄追蹤并可支持?jǐn)?shù)據(jù)庫檔案格式。2.濕度警報(bào)系統(tǒng):2.1可設(shè)定啟動(dòng)警報(bào)的濕度值及條件,內(nèi)配蜂鳴器(90分貝)及閃爍警示功能。2.2可另外選配積層式警示燈。3.溫濕度偏移校正功能:內(nèi)建校正功能,確保顯示準(zhǔn)確度。上海哪家的試驗(yàn)箱比較好?大型試驗(yàn)箱市面價(jià)
通過調(diào)節(jié)試驗(yàn)箱的溫度和濕度水平,研究人員可能會(huì)導(dǎo)致水分凝結(jié)。控制環(huán)境也允許測(cè)試人員將設(shè)備或產(chǎn)品暴露在"呼吸"過程中,即將空氣中的水分吸入測(cè)試對(duì)象,從而檢查防潮性能或吸濕后的功能水平。公司還使用由透明塑料制成,模擬沿海含鹽潮濕空氣的大氣。設(shè)計(jì)用于熱帶地區(qū)的設(shè)備或物體可能會(huì)接受或霉菌孢子培養(yǎng),并結(jié)合濕熱進(jìn)行測(cè)試。其他測(cè)試室可能會(huì)將測(cè)試對(duì)象暴露在熱真空環(huán)境中,與外層空間的大氣相似,離心機(jī)裝置、振動(dòng)臺(tái)和其他機(jī)械裝置放置在試驗(yàn)箱中,可以復(fù)制各種物理應(yīng)力。大試驗(yàn)箱價(jià)格是多少合肥真萍告訴您試驗(yàn)箱如何去使用呢?
下面為大家介紹一下高溫鐘罩爐的結(jié)構(gòu)系統(tǒng)。一、爐體配置爐膛結(jié)構(gòu):采用多晶莫來石材料砌筑而成有效尺寸:φ300320mm(DH)設(shè)備重量:約1200Kg外觀顏色:掛板采用高溫噴塑,顏色為江淮藍(lán)外形尺寸:W1300H2200D1510(mm),不含(囪、指示燈)二、熱工系統(tǒng)1.額定溫度:1550℃2.限制溫度:1600℃3.加熱元件:U型硅鉬棒4.加熱功率:16kW5.空爐保溫功率≤8kW6.溫區(qū)個(gè)數(shù):1個(gè)7.控溫點(diǎn)數(shù):1點(diǎn)8.熱偶:B分度9.程序**精度:2℃(大于600℃,升溫速率≤3℃/min)10.控溫穩(wěn)定度:1℃(恒溫平臺(tái))11.爐膛溫度均勻度:4℃(恒溫1500℃,2h)
超高真空烘箱廣泛應(yīng)用于航空、航天、電子、通訊等科研及生產(chǎn)單位。確定儀器儀表、電工產(chǎn)品、材料、零部件、設(shè)備等在低氣壓、高溫單項(xiàng)或同時(shí)作用下的環(huán)境適應(yīng)性與可靠性試驗(yàn)。下面為大家介紹一下超高真空烘箱的主要技術(shù)指標(biāo)。1.工作室溫度范圍:常溫~+300℃用戶使用溫度260℃2.溫度波動(dòng)度:1.0℃(空載);3.溫度偏差:常壓溫度試驗(yàn):常溫~200℃時(shí)2℃200~300℃時(shí)5.0℃低氣壓高溫綜合試驗(yàn):≤100℃時(shí)2.0℃,100℃~200℃時(shí)5.0℃200℃~300℃時(shí)7.0℃試驗(yàn)箱給社會(huì)帶來了什么好處?
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上海哪家試驗(yàn)箱廠家值得信賴?大型試驗(yàn)箱市面價(jià)
本篇介紹專業(yè)全自動(dòng)HMDS真空烤箱,首先簡(jiǎn)單介紹一下HMDS預(yù)處理系統(tǒng)的必要性:在半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中,光刻是集成電路圖形轉(zhuǎn)移重要的一個(gè)工藝環(huán)節(jié),涂膠質(zhì)量直接影響到光刻的質(zhì)量,涂膠工藝也顯得尤為重要。光刻涂膠工藝中絕大多數(shù)光刻膠是疏水的,而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的,這造成光刻膠和硅片的黏合性較差,尤其是正膠,顯影時(shí)顯影液會(huì)侵入光刻膠和硅片的連接處,容易造成漂條、浮膠等,導(dǎo)致光刻圖形轉(zhuǎn)移的失敗,同時(shí)濕法腐蝕容易發(fā)生側(cè)向腐蝕。增黏劑HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善這種狀況。將HMDS涂到硅片表面后,經(jīng)烘箱加溫可反應(yīng)生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷?,其疏水基可很好地與光刻膠結(jié)合,起著偶聯(lián)劑的作用。大型試驗(yàn)箱市面價(jià)
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