背景技術(shù)：

晶圓的生產(chǎn)與制作屬極為精密的加工技術(shù)，其通常需借助晶圓傳輸裝置來(lái)進(jìn)行運(yùn)輸傳遞等作業(yè)。例如，準(zhǔn)備對(duì)晶圓進(jìn)行刻蝕加工時(shí)，需要利用晶圓傳輸裝置將晶舟內(nèi)的待刻蝕晶圓傳輸至刻蝕機(jī)臺(tái)內(nèi)。

現(xiàn)有一種晶圓傳輸裝置包括機(jī)械手臂，該機(jī)械手臂的表面設(shè)有卡槽，晶圓用于放置在該卡槽內(nèi)，以防止機(jī)械手臂在傳送晶圓時(shí)發(fā)生晶圓平移(即晶圓相對(duì)機(jī)械手臂運(yùn)動(dòng))。然而，現(xiàn)有機(jī)械手臂易出現(xiàn)碰撞損傷，另外，機(jī)械手臂的傳送晶圓效率較低，影響了生產(chǎn)效率。

直角坐標(biāo)系機(jī)械手臂有三個(gè)主自由度。浙江進(jìn)口晶圓運(yùn)送機(jī)械吸臂

本發(fā)明針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)中的不足，提供了一種晶圓搬運(yùn)機(jī)械手，本發(fā)明的機(jī)械手在傳送過(guò)程中晶片中心始終保證直線運(yùn)動(dòng)，且角度不會(huì)發(fā)生改變。從而提高機(jī)械手整體剛度和承重能力，同時(shí)提高了重復(fù)定位精度。本發(fā)明結(jié)構(gòu)合理性能穩(wěn)定，維護(hù)方便，多功能集一身，可滿足多種工藝設(shè)備要求，適用于各種半導(dǎo)體設(shè)備。

為了解決上述技術(shù)問(wèn)題，本發(fā)明通過(guò)下述技術(shù)方案得以解決：一種晶圓搬運(yùn)機(jī)械手，包括升降軸、旋轉(zhuǎn)軸和伸展軸，其特征為，所述的伸展軸包括伸展電機(jī)、一級(jí)伸展臂、二級(jí)伸展臂和手指固定座，所述的一級(jí)伸展臂與所述伸展電機(jī)之間設(shè)置有一級(jí)關(guān)節(jié)，所述的一級(jí)伸展臂與所述的二級(jí)伸展臂之間設(shè)置有二級(jí)關(guān)節(jié)，所述的二級(jí)伸展臂和所述的手指固定座之間設(shè)置有三級(jí)關(guān)節(jié)，所述的伸展電機(jī)、所述的一級(jí)關(guān)節(jié)、所述的二級(jí)關(guān)節(jié)和所述的三級(jí)關(guān)節(jié)依次傳動(dòng)，所述的手指固定座始終保持直線運(yùn)動(dòng)。

揭陽(yáng)正規(guī)晶圓運(yùn)送機(jī)械吸臂價(jià)格信息柔性機(jī)械臂不只是一個(gè)剛?cè)狁詈系姆蔷€性系統(tǒng)，也是系統(tǒng)動(dòng)力學(xué)特性與控制特性相互耦合的非線性系統(tǒng)。

晶圓運(yùn)送機(jī)械吸臂的高速度和高精度，能夠滿足封裝和測(cè)試過(guò)程中對(duì)運(yùn)輸速度和精度的要求。光刻和薄膜沉積：在光刻和薄膜沉積過(guò)程中，晶圓運(yùn)送機(jī)械吸臂被用于將晶圓從一個(gè)工序轉(zhuǎn)移到另一個(gè)工序。它能夠?qū)⒕A準(zhǔn)確地吸附在機(jī)械臂上，并將其運(yùn)送到光刻機(jī)或薄膜沉積設(shè)備上，以完成后續(xù)的光刻和薄膜沉積工作。晶圓運(yùn)送機(jī)械吸臂的高精度和穩(wěn)定性能，能夠確保光刻和薄膜沉積過(guò)程中的精確定位和穩(wěn)定運(yùn)輸。

晶圓運(yùn)送機(jī)械吸臂在半導(dǎo)體行業(yè)中扮演著重要的角色。它的應(yīng)用范圍廣，能夠滿足不同工序的晶圓運(yùn)輸需求。晶圓運(yùn)送機(jī)械吸臂的高精度、高速度和穩(wěn)定性能，能夠提高生產(chǎn)效率，保證產(chǎn)品質(zhì)量和生產(chǎn)安全。隨著半導(dǎo)體行業(yè)的不斷發(fā)展，晶圓運(yùn)送機(jī)械吸臂的應(yīng)用前景將更加廣闊。

晶圓運(yùn)送機(jī)械吸臂的機(jī)械結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)精巧且復(fù)雜。為了保證晶圓在搬運(yùn)過(guò)程中的穩(wěn)定性，吸臂的末端通常配備有專門設(shè)計(jì)的晶圓吸附裝置。這些吸附裝置采用真空吸附原理，通過(guò)在晶圓表面形成負(fù)壓，將晶圓牢固地吸附在吸臂上。吸附裝置的吸盤材質(zhì)通常選用柔軟、高彈性且無(wú)污染的材料，如硅膠等，既能確保足夠的吸附力，又不會(huì)對(duì)晶圓表面造成損傷。同時(shí)，吸盤的形狀和布局也經(jīng)過(guò)優(yōu)化，以保證晶圓受力均勻，避免在吸附和搬運(yùn)過(guò)程中產(chǎn)生翹曲或破裂等問(wèn)題。對(duì)于工業(yè)應(yīng)用來(lái)說(shuō)，有時(shí)并不需要機(jī)械手臂具有完整的六個(gè)自由度.

    區(qū)熔法分為兩種：水平區(qū)熔法和立式懸浮區(qū)熔法。前者主要用于鍺、GaAs等材料的提純和單晶生長(zhǎng)；后者主要用于硅。為什么有橫著和豎著長(zhǎng)的不同捏？這是由于硅的熔點(diǎn)高，化學(xué)性能活潑，容易受到異物的玷污，所以難以找到適合的器皿來(lái)盛方，自然水平區(qū)熔法不能用在硅的生長(zhǎng)上啦。區(qū)熔法與直拉法比較大的不同之處在于：區(qū)熔法一般不使用坩鍋，引入的雜質(zhì)更少，生長(zhǎng)的材料雜質(zhì)含量也就更少。總而言之，單晶硅棒是圓柱形的，使用這種方法得到的單晶硅圓片自然也是圓形的了。就是下圖這個(gè)樣的——知道是兩頭的尖尖是如何造成的嗎？Bingo，圖左的尖尖是籽晶，圖右的尖尖是晶棒長(zhǎng)到***，從熔融態(tài)里出來(lái)后，由于復(fù)雜的流體力學(xué)原理，以及熔融態(tài)的硅迅速凝固而導(dǎo)致的。 主要代替人工從事場(chǎng)景危險(xiǎn)的工作或者是代替密集型、重復(fù)性高的動(dòng)作。汕尾晶圓運(yùn)送機(jī)械吸臂工廠

手臂就要產(chǎn)生振動(dòng)，或動(dòng)作時(shí)工件卡死無(wú)法工作。浙江進(jìn)口晶圓運(yùn)送機(jī)械吸臂

整個(gè)蛙腿型晶圓搬運(yùn)機(jī)械手共由3個(gè)電機(jī)實(shí)現(xiàn)運(yùn)動(dòng)控制。2臺(tái)直驅(qū)電機(jī)負(fù)責(zé)連接晶圓托盤連桿的同步控制，1臺(tái)直流電機(jī)負(fù)責(zé)整個(gè)機(jī)械手的上升與下降控制。雖然軸數(shù)較少，但對(duì)控制的精度、平穩(wěn)性和可靠性要求極高。整個(gè)控制架構(gòu)基于CANopen或者EtherCAT。 針對(duì)客戶的需求，Copley給出了性價(jià)比比較好的解決方案-- Accelnet Plus Module驅(qū)動(dòng)器。Dual axis module同時(shí)驅(qū)動(dòng)2臺(tái)直驅(qū)電機(jī)，Single axis module驅(qū)動(dòng)1臺(tái)升降直流電機(jī)。雙軸模塊式驅(qū)動(dòng)器使系統(tǒng)成本比較好化高精度時(shí)間戳保證PVT控制的比較好性能多通道**I/O高精度位置觸發(fā)且多點(diǎn)位置數(shù)據(jù)存儲(chǔ)客制化編碼器接口協(xié)議-Gurley Virtual Absolute多點(diǎn)增益切換小體積可直接安裝于機(jī)械手底座內(nèi)部專業(yè)的技術(shù)支持浙江進(jìn)口晶圓運(yùn)送機(jī)械吸臂

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