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沈陽油性光刻膠價格

來源： 發(fā)布時間：2025-05-02

依托自主研發(fā)與國產(chǎn)供應鏈，吉田半導體 LCD 光刻膠市占率達 15%，躋身國內(nèi)前段企業(yè)。吉田半導體 YK-200 LCD 正性光刻膠采用國產(chǎn)樹脂與單體，實現(xiàn) 100% 國產(chǎn)化替代。其分辨率 0.35μm，附著力 > 3N/cm，性能優(yōu)于 JSR 的 AR-P310 系列。通過與國內(nèi)多家大型企業(yè)的深度合作，產(chǎn)品覆蓋智能手機、電視等顯示終端，年供貨量超 200 噸。公司建立國產(chǎn)原材料溯源體系，確保每批次產(chǎn)品穩(wěn)定性，推動 LCD 面板材料國產(chǎn)化進程。

廣東光刻膠廠家哪家好？沈陽油性光刻膠價格

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國家大基金三期：注冊資本3440億元，明確將光刻膠列為重點投資領域，計劃投入超500億元支持樹脂、光引發(fā)劑等原料研發(fā)，相當于前兩期投入總和的3倍。

地方專項政策：湖北省對通過驗證的光刻膠企業(yè)給予設備采購補貼+稅收減免，武漢太紫微憑借全流程國產(chǎn)化技術(shù)獲中芯國際百萬級訂單；福建省提出2030年化工新材料自給率達90%，光刻膠是重點突破方向。

研發(fā)專項：科技部“雙十計劃”設立20億元經(jīng)費，要求2025年KrF/ArF光刻膠國產(chǎn)化率突破10%，并啟動EUV光刻膠預研。
南京激光光刻膠報價厚板光刻膠 JT-3001，抗深蝕刻，PCB 電路板制造Preferred!

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廣東吉田半導體材料有限公司多種光刻膠產(chǎn)品，主要涵蓋厚板、負性、正性、納米壓印及光刻膠等類別，以滿足不同領域的需求。

厚板光刻膠：JT-3001 型號，具有優(yōu)異的分辨率和感光度，抗深蝕刻性能良好，符合歐盟 ROHS 標準，保質(zhì)期 1 年。適用于對精度和抗蝕刻要求高的厚板光刻工藝，如特定電路板制造。

負性光刻膠

  • SU-3 負性光刻膠：分辨率優(yōu)異，對比度良好，曝光靈敏度高，光源適應，重量 100g。常用于對曝光精度和光源適應性要求較高的微納加工、半導體制造等領域。


正性光刻膠

  • LCD 正性光刻膠 YK-200：具有較大曝光、高分辨率、良好涂布和附著力，重量 100g。適用于液晶顯示領域的光刻工藝，確保 LCD 生產(chǎn)中圖形精確轉(zhuǎn)移和良好涂布效果。
  • 半導體正性光刻膠 YK-300：具備耐熱耐酸、耐溶劑性、絕緣阻抗和緊密性，重量 100g。主要用于半導體制造工藝，滿足半導體器件對光刻膠在化學穩(wěn)定性和電氣性能方面的要求。

LCD顯示

? 彩色濾光片（CF）：

? 黑色矩陣（BM）光刻膠：隔離像素，線寬精度±2μm，透光率<0.1%。

? RGB色阻光刻膠：形成紅/綠/藍像素，需高色純度（NTSC≥95%）和耐光性。

? 陣列基板（Array）：

? 柵極絕緣層光刻膠：用于TFT-LCD的柵極圖案化，分辨率≤3μm。

 OLED顯示（柔性/剛性）

? 像素定義層（PDL）光刻膠：在基板上形成有機發(fā)光材料的 confinement 結(jié)構(gòu)，線寬精度±1μm，需耐溶劑侵蝕（適應蒸鍍工藝）。

? 觸控電極（如ITO/PET）：通過光刻膠圖形化實現(xiàn)透明導電線路，線寬≤5μm。

 Mini/Micro LED

? 巨量轉(zhuǎn)移前的芯片制備：使用高分辨率光刻膠（分辨率≤5μm）定義微米級LED陣列，良率要求>99.99%。
吉田半導體產(chǎn)品矩陣。

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定義與特性

正性光刻膠是一種在曝光后，曝光區(qū)域會溶解于顯影液的光敏材料，形成與掩膜版（Mask）圖案一致的圖形。與負性光刻膠（未曝光區(qū)域溶解）相比，其優(yōu)勢是分辨率高、圖案邊緣清晰，是半導體制造（尤其是制程）的主流選擇。

化學組成與工作原理

 主要成分

? 樹脂（成膜劑）：

? 傳統(tǒng)正性膠：采用**酚醛樹脂（Novolak）與重氮萘醌（DNQ，光敏劑）**的復合體系（PAC體系），占比約80%-90%。

? 化學增幅型（用于DUV/EUV）：含環(huán)化烯烴樹脂或含氟聚合物，搭配光酸發(fā)生器（PAG），通過酸催化反應提高感光度和分辨率。

? 溶劑：溶解樹脂和感光劑，常用丙二醇甲醚醋酸酯（PGMEA）或乳酸乙酯。

? 添加劑：表面活性劑（改善涂布均勻性）、穩(wěn)定劑（防止暗反應）、堿溶解度調(diào)節(jié)劑等。

 工作原理

? 曝光前：光敏劑（如DNQ）與樹脂結(jié)合，形成不溶于堿性顯影液的復合物。

? 曝光時：

? 傳統(tǒng)PAC體系：DNQ在紫外光（G線436nm、I線365nm）照射下發(fā)生光分解，生成羧酸，使曝光區(qū)域樹脂在堿性顯影液中溶解性增強。

? 化學增幅型：PAG在DUV/EUV光下產(chǎn)生活性酸，催化樹脂發(fā)生脫保護反應，大幅提高顯影速率（靈敏度提升10倍以上）。

? 顯影后：曝光區(qū)域溶解去除，未曝光區(qū)域保留，形成正性圖案。
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感光膠的工藝和應用。沈陽油性光刻膠價格

產(chǎn)品優(yōu)勢：多元化布局與專業(yè)化延伸

 全品類覆蓋
吉田產(chǎn)品涵蓋芯片光刻膠、納米壓印光刻膠、LCD光刻膠、半導體錫膏等，形成“光刻膠+配套材料”的完整產(chǎn)品線。例如：

? 芯片光刻膠：覆蓋i線、g線光刻膠，適用于6英寸、8英寸晶圓制造。

? 納米壓印光刻膠：用于MEMS、光學器件等領域，替代傳統(tǒng)光刻工藝。

 專業(yè)化延伸
公司布局半導體用KrF光刻膠，計劃2025年啟動研發(fā)，目標進入中芯國際、長江存儲等晶圓廠供應鏈。

質(zhì)量與生產(chǎn)優(yōu)勢：嚴格品控與自動化生產(chǎn)

 ISO認證與全流程管控
公司通過ISO9001:2008質(zhì)量體系認證，生產(chǎn)環(huán)境執(zhí)行8S管理，原材料采用美、德、日進口高質(zhì)量材料，確保產(chǎn)品批次穩(wěn)定性。
質(zhì)量指標：光刻膠金屬離子含量低于0.1ppb，良率超99%。

 自動化生產(chǎn)能力
擁有行業(yè)前列的全自動化生產(chǎn)線，年產(chǎn)能達2000噸（光刻膠及配套材料），支持大規(guī)模訂單交付。

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標簽： 錫片 光刻膠