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光斑分析儀原廠

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2025-04-14

Dimension-Labs 針對(duì)高功率激光檢測(cè)難題推出 BeamHere 大功率光束取樣系統(tǒng),突破傳統(tǒng)面陣傳感器在 10μW/cm2 飽和閾值的限制,通過(guò)創(chuàng)新狹縫物理衰減機(jī)制實(shí)現(xiàn) 10W 級(jí)激光直接測(cè)量,配合可疊加的單次(DL-LBA-1)與雙次(DL-LBA-2)取樣配件形成多級(jí)衰減方案,衰減達(dá) 10??,可測(cè)功率超 1000W。該系統(tǒng)采用 45° 傾斜設(shè)計(jì)的單次取樣配件支持 4%-5% 取樣率,雙次配件內(nèi)置雙片透鏡實(shí)現(xiàn) 0.16%-0.25% 取樣率,均配備 C 口通用接口和鎖緊環(huán)結(jié)構(gòu),支持任意角度入射光束檢測(cè)。其優(yōu)化設(shè)計(jì)的 68mm(單次)和 53mm(雙次)取樣光程確保聚焦光斑完整投射至傳感器,解決傳統(tǒng)外搭光路光程不足問(wèn)題,緊湊結(jié)構(gòu)減少 70% 空間占用。系統(tǒng)覆蓋 190-2500nm 寬光譜范圍,通過(guò) CE/FCC 認(rèn)證,可在 - 40℃至 85℃環(huán)境穩(wěn)定工作,已成功應(yīng)用于工業(yè)激光加工(熱影響區(qū)≤30μm)、科研超快激光(皮秒脈沖分析)及醫(yī)療設(shè)備校準(zhǔn)(能量均勻性誤差<2%),幫助客戶提升 3 倍檢測(cè)效率并降** 30% 檢測(cè)成本。高功率激光光束質(zhì)量怎么測(cè)?光斑分析儀原廠

光斑分析儀

維度光電-BeamHere光斑分析儀通過(guò)測(cè)量光束質(zhì)量參數(shù),為激光技術(shù)在多領(lǐng)域的高效應(yīng)用提供支撐。在工業(yè)加工領(lǐng)域,其亞微米級(jí)光斑校準(zhǔn)能力有效優(yōu)化切割、焊接及打標(biāo)工藝,確保光束輪廓的一致性,從而保障加工質(zhì)量。在醫(yī)療領(lǐng)域,該設(shè)備用于眼科準(zhǔn)分子激光手術(shù)設(shè)備的校準(zhǔn),實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)光束能量分布,確保手術(shù)的安全性。在科研場(chǎng)景中,它支持皮秒級(jí)脈沖激光測(cè)量,為物理與材料提供高精度數(shù)據(jù),推動(dòng)新型激光器件的。在光通信領(lǐng)域,該分析儀能夠?qū)崿F(xiàn)光纖端面光斑形態(tài)分析,保障光信號(hào)傳輸?shù)姆€(wěn)定性。在農(nóng)業(yè)與生命領(lǐng)域,通過(guò)分析激光誘變育種的光束參數(shù),優(yōu)化植物生長(zhǎng)調(diào)控的效率。全系產(chǎn)品覆蓋200-2600nm寬光譜范圍,支持千萬(wàn)級(jí)功率測(cè)量,結(jié)合M2因子測(cè)試模塊與AI分析軟件,為各行業(yè)提供從光斑形態(tài)到傳播特性的全鏈路檢測(cè)方案,助力客戶提升產(chǎn)品性能和生產(chǎn)效率。無(wú)干涉光斑分析儀軟件光斑分析儀保修期多長(zhǎng)?維度光電整機(jī) 3 年質(zhì)保,部件 5 年延保。

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如何使用光斑分析儀 Step 1 準(zhǔn)備設(shè)備 將 BeamHere 光斑分析儀固定在光具座上,調(diào)整高度使激光束中心與 sensor 靶面重合。用 Type-C 線連接分析儀與電腦,打開(kāi) BeamHere 軟件等待設(shè)備識(shí)別。 Step 2 采集數(shù)據(jù) 開(kāi)啟激光器預(yù)熱 10 分鐘,點(diǎn)擊軟件 "開(kāi)始采集" 按鈕。實(shí)時(shí)觀察 2D 成像界面,確保光斑無(wú)過(guò)曝或欠曝,可通過(guò)轉(zhuǎn)輪調(diào)節(jié)衰減片至合適狀態(tài)。 Step 3 分析參數(shù) 在 "高級(jí)分析" 模塊勾選所需參數(shù),軟件自動(dòng)計(jì)算光斑尺寸(±0.5μm 精度)、能量均勻性(CV 值)及光束質(zhì)量因子。3D 視圖支持手勢(shì)縮放,便于觀察高階橫模分布。 Step 4 驗(yàn)證結(jié)果 切換至 "歷史記錄" 對(duì)比多次測(cè)量數(shù)據(jù),使用 "統(tǒng)計(jì)分析" 功能生成標(biāo)準(zhǔn)差曲線。若發(fā)現(xiàn)異常,可調(diào)用 "單點(diǎn)測(cè)量" 工具檢查特定位置能量值。 Step 5 導(dǎo)出報(bào)告 在 "報(bào)告模板" 中選擇 "科研版" 或 "工業(yè)版",自動(dòng)生成帶水印的 PDF 報(bào)告,包含光斑圖像、參數(shù)表格、趨勢(shì)圖表及 QC 判定結(jié)果。

Dimension-Labs 為激光設(shè)備與生產(chǎn)企業(yè)推出 Beamhere 光束質(zhì)量管家。該系統(tǒng)通過(guò)智能檢測(cè)模塊,可快速完成光斑能量分布測(cè)繪、發(fā)散角計(jì)算及 M2 因子分析,幫助用戶優(yōu)化光束整形效果、提升聚焦精度。所有測(cè)試參數(shù)均符合 ISO11146 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn),包含光斑寬度、質(zhì)心位置等指標(biāo)。可選配的 M2 測(cè)試功能可動(dòng)態(tài)分析光束傳播特性,終由軟件自動(dòng)生成專業(yè)測(cè)試報(bào)告,將傳統(tǒng)人工檢測(cè)效率提升 80% 以上。 產(chǎn)品優(yōu)勢(shì): 滿足測(cè)試需求的全系列產(chǎn)品 適配所有Beamhere光斑分析儀的M M2因子測(cè)試模塊 精心設(shè)計(jì)的分析軟件 軟件真正做到交互友好,簡(jiǎn)單易用,一鍵輸出測(cè)試報(bào)告。無(wú)干涉條紋的光斑質(zhì)量分析儀。

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Dimension-Labs 掃描狹縫式光斑分析儀系列采用國(guó)內(nèi)的刀口 / 狹縫雙模式切換技術(shù),覆蓋 190-2700nm 寬光譜,可測(cè) 2.5μm-10mm 光束直徑,0.1μm 超高分辨率突破傳統(tǒng)檢測(cè)極限。其創(chuàng)新設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)三大優(yōu)勢(shì): 雙模式自適應(yīng)檢測(cè) 通過(guò)軟件切換刀口 / 狹縫模式,分析 < 20μm 極小光斑形態(tài)或 10mm 大光斑能量分布,全量程無(wú)盲區(qū)。 高功率直接測(cè)量 狹縫物理衰減機(jī)制允許單次通過(guò)狹縫區(qū)域光,無(wú)需外置衰減片即可安全測(cè)量近 10W 高功率激光。 超分辨率成像 基于狹縫掃描原理實(shí)現(xiàn) 0.1μm 分辨率,完整捕捉亞微米級(jí)光斑細(xì)節(jié),避免能量分布特征丟失。 設(shè)備內(nèi)置正交狹縫轉(zhuǎn)動(dòng)輪,通過(guò)旋轉(zhuǎn)掃描同步采集 XY 軸功率數(shù)據(jù),經(jīng)算法處理輸出光束直徑、橢圓率等 20 + 參數(shù)。緊湊模塊化設(shè)計(jì)適配多場(chǎng)景安裝,通過(guò) CE/FCC 認(rèn)證,適用于激光加工、醫(yī)療設(shè)備及科研領(lǐng)域,助力客戶提升光束質(zhì)量檢測(cè)精度與效率。激光光斑的光斑尺寸、形狀、強(qiáng)度分布、M2因子、空間位置與穩(wěn)定性測(cè)試。光通信光斑分析儀作用

光斑分析儀搭配什么 M2 因子測(cè)量模塊好?光斑分析儀原廠

維度光電BeamHere 光斑分析儀選型指南: 1. 光束特性分析 光斑尺寸:亞微米用狹縫式(2.5μm 精度),毫米級(jí)用相機(jī)式(10mm 量程)。 功率等級(jí):高功率用狹縫式(近 10W),微瓦級(jí)用相機(jī)式(適配衰減片)。 光束形態(tài):高斯用狹縫式(經(jīng)濟(jì)),非高斯用相機(jī)式(保留細(xì)節(jié))。 脈沖特性:?jiǎn)蚊}沖用相機(jī)式(觸發(fā)同步),連續(xù)/高頻用狹縫式(匹配掃描頻率)。 2. 應(yīng)用場(chǎng)景適配 工業(yè):高功率用狹縫式,動(dòng)態(tài)監(jiān)測(cè)與校準(zhǔn)用相機(jī)式,組合方案覆蓋全流程。 醫(yī)療:相機(jī)式監(jiān)測(cè)能量分布,脈沖激光適配觸發(fā)模式確保精度。 科研:超短脈沖與復(fù)雜光束分析用相機(jī)式,材料加工優(yōu)化結(jié)合狹縫式。 光通信:光纖檢測(cè)用相機(jī)式,激光器表征用狹縫式高靈敏度測(cè)量。 3. 功能擴(kuò)展規(guī)劃 單一需求:以光斑尺寸與功率為,如高功率 + 亞微米光斑選狹縫式。 復(fù)雜場(chǎng)景:雙技術(shù)組合(狹縫式 + 相機(jī)式),實(shí)現(xiàn)全場(chǎng)景覆蓋。 長(zhǎng)期規(guī)劃:科研機(jī)構(gòu)選全功能模塊(M2 因子測(cè)試、皮秒同步),工業(yè)用戶選基礎(chǔ)款 + 定制接口。光斑分析儀原廠

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