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從而可以在閥門開關(guān)60關(guān)閉后取下被阻塞的過(guò)濾器30進(jìn)行清理并不會(huì)導(dǎo)致之后的下一級(jí)腔室102的剝離進(jìn)程無(wú)法繼續(xù)。其中,腔室10用于按照處于剝離制程的玻璃基板的傳送方向逐級(jí)向玻璃基板分別提供剝離液;與多個(gè)腔室10分別對(duì)應(yīng)連接的多個(gè)存儲(chǔ)箱20,各級(jí)腔室10分別通過(guò)管道與相應(yīng)的存儲(chǔ)箱20連接,存儲(chǔ)箱20用于收集和存儲(chǔ)來(lái)自當(dāng)前級(jí)腔室101的經(jīng)歷剝離制程的剝離液;過(guò)濾器30用于過(guò)濾來(lái)自當(dāng)前級(jí)腔室101的存儲(chǔ)箱20的剝離液,并且過(guò)濾器30還可以通過(guò)管道與下一級(jí)腔室102連接,從而過(guò)濾器30可以將過(guò)濾后的剝離液輸送給下一級(jí)腔室102。各腔室10設(shè)計(jì)為適合進(jìn)行剝離制程,用于向制程中的玻璃基板供給剝離液,具體結(jié)構(gòu)可參考現(xiàn)有設(shè)計(jì)在此不再贅述。各級(jí)腔室10分別于相應(yīng)的存儲(chǔ)箱20通過(guò)管道連接,腔室10中經(jīng)歷剝離制程后的剝離液可以經(jīng)管道輸送至存儲(chǔ)箱20中,由存儲(chǔ)箱20來(lái)收集和存儲(chǔ)。各級(jí)腔室10的存儲(chǔ)箱20分別與相應(yīng)的過(guò)濾器30通過(guò)管道連接,經(jīng)存儲(chǔ)箱20處理后的剝離液再經(jīng)相應(yīng)的過(guò)濾器30過(guò)濾后才經(jīng)管道輸送至下一級(jí)腔室102。本申請(qǐng)中,腔室10及過(guò)濾器30可以采用與現(xiàn)有技術(shù)相同的設(shè)計(jì)。處于剝離制程中的玻璃基板。龍騰光電用的哪家的剝離液?南京剝離液批量定制
如遇水,圖案則隨著背膠的脫落而脫落。這種印刷方法是通過(guò)滾筒式膠質(zhì)印模把沾在膠面上的油墨轉(zhuǎn)印到紙面上。由于膠面是平的,沒(méi)有凹下的花紋,所以印出的紙面上的圖案和花紋也是平的,沒(méi)有立體感,防偽性較差。膠版印刷所需的油墨較少,模具的制造成本也比凹版低。目前我國(guó)汽車尾氣直接排入空氣中,并未進(jìn)行回收處理,對(duì)空氣造成了巨大污染,同時(shí)會(huì)對(duì)人體造成傷害。技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路本**技術(shù)的目的就在于為了解決上述問(wèn)題而提供一種印刷品膠面印刷剝離復(fù)合裝置。合肥顯示面板用剝離液批量定制剝離液的發(fā)展趨勢(shì)如何。
本發(fā)明涉及剝離液技術(shù)領(lǐng)域:,更具體的說(shuō)是涉及一種高世代面板銅制程光刻膠剝離液。背景技術(shù)::電子行業(yè)飛速發(fā)展,光刻膠應(yīng)用也越來(lái)越。在半導(dǎo)體元器件制造過(guò)程中,經(jīng)過(guò)涂敷-顯影-蝕刻過(guò)程,在底層金屬材料上蝕刻出所需線條之后,必須在除去殘余光刻膠的同時(shí)不能損傷任何基材,才能再進(jìn)行下道工序。因此,光刻膠的剝離質(zhì)量也有直接影響著產(chǎn)品的質(zhì)量。但是傳統(tǒng)光刻膠剝離液雖然能剝離絕大部分光阻,但對(duì)于高世代面板(高世代面板是代指大尺寸的液晶面板),傳統(tǒng)剝離液親水性不夠,水置換能力較差,容易造成面板邊緣光刻膠殘留。技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:本發(fā)明的目的是提供一種高世代面板銅制程光刻膠剝離液。為了實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明采用如下技術(shù)方案:本申請(qǐng)公開了一種高世代面板銅制程光刻膠剝離液,包括以下質(zhì)量組分:酰胺:50-60%;醇醚:35-45%;環(huán)胺與鏈胺:3-7%;緩蝕劑:%%;潤(rùn)濕劑:%%。的技術(shù)方案中,所述的酰胺為n-甲基甲酰胺、n-甲基乙酰胺、n,n-二甲基甲酰胺中的任意一種或多種。的技術(shù)方案中,所述的醇醚為二乙二醇丁醚、二乙二醇甲醚、乙二醇甲醚、乙二醇乙醚中的任意一種或多種。的技術(shù)方案中。
本發(fā)明提供的光刻膠剝離去除方法第二實(shí)施例,用于半導(dǎo)體制造工藝中,可應(yīng)用于包括但不限于mos、finfet等所有現(xiàn)有技術(shù)中涉及光刻膠剝離去除的生產(chǎn)步驟,主要包括以下步驟:s1,在半導(dǎo)體襯底上淀積一層二氧化硅薄膜作為介質(zhì)層;s2,旋涂光刻膠并曝光顯影,形成光刻圖形阻擋層;s3,執(zhí)行離子注入,離子注入劑量范圍為1×1013cm-2~1×1016cm-2。s4,采用氮?dú)浠旌蠚怏w執(zhí)行等離子刻蝕,對(duì)光刻膠進(jìn)行干法剝離,氫氮混合比例范圍為4:96~30:70。s5,對(duì)襯底表面進(jìn)行清洗,清洗液采用氧化硫磺混合物溶液和過(guò)氧化氨混合物溶液。本發(fā)明提供的光刻膠剝離去除方法第三實(shí)施例,用于半導(dǎo)體制造工藝中,可應(yīng)用于包括但不限于mos、finfet等所有現(xiàn)有技術(shù)中涉及光刻膠剝離去除的生產(chǎn)步驟,主要包括以下步驟:s1,在半導(dǎo)體襯底上淀積一層二氧化硅薄膜作為介質(zhì)層;s2,旋涂光刻膠并曝光顯影,形成光刻圖形阻擋層;s3,執(zhí)行離子注入,離子注入劑量范圍為1×1013cm-2~1×1016cm-2。s4,采用氮?dú)浠旌蠚怏w執(zhí)行等離子刻蝕,對(duì)光刻膠進(jìn)行干法剝離,氫氮混合比例范圍為4:96~30:70。s5,對(duì)硅片執(zhí)行單片排序清洗,清洗液采用h2so4:h2o2配比范圍為6:1~4:1且溫度范圍為110℃~140℃的過(guò)氧化硫磺混合物溶液。性價(jià)比高的剝離液哪里有;
按照玻璃基板傳送方向從當(dāng)前腔室101開始逐級(jí)由各腔室10向玻璃基板供給剝離液以進(jìn)行剝離制程。剝離液從當(dāng)前腔室101進(jìn)入相應(yīng)的存儲(chǔ)箱20,在剝離液的水平面超過(guò)預(yù)設(shè)高度后流入過(guò)濾器30,再經(jīng)過(guò)過(guò)濾器30的過(guò)濾將過(guò)濾后的剝離液傳送至下一級(jí)腔室102內(nèi)。其中,薄膜碎屑70一般為金屬碎屑或ito碎屑。其中,如圖2所示,圖2為本申請(qǐng)實(shí)施例提供的剝離液機(jī)臺(tái)100的第二種結(jié)構(gòu)示意圖。閥門開關(guān)60設(shè)置在管道40及第二管道50上。在過(guò)濾器30被阻塞時(shí),關(guān)閉位于過(guò)濾器30兩側(cè)的管道40及第二管道50上的閥門開關(guān)60,可以保證當(dāng)前級(jí)腔室101對(duì)應(yīng)的存儲(chǔ)箱20內(nèi)剝離液不會(huì)流出,同時(shí)下一級(jí)腔室102內(nèi)的剝離液也不會(huì)流出。在一些實(shí)施例中,請(qǐng)參閱圖3,圖3為本申請(qǐng)實(shí)施例提供的剝離液機(jī)臺(tái)100的第三種結(jié)構(gòu)示意圖。過(guò)濾器30包括多個(gè)并列排布的子過(guò)濾器301,所述管道40包括多個(gè)子管道401,每一所述子管道401與一子過(guò)濾器301連通,且所述多個(gè)子管道401與當(dāng)前級(jí)腔室101對(duì)應(yīng)的存儲(chǔ)箱20連通。在一些實(shí)施例中,第二管道50包括公共子管道501及多個(gè)第二子管道502,每一所述第二子管道502與一子過(guò)濾器301連通,每一所述第二子管道502與所述公共子管道501連通,所述公共子管道501與所述下一級(jí)腔室102連通。其中。剝離液的組成成分是什么;合肥銀蝕刻液剝離液商家
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避免接觸皮膚、眼睛和衣服;存儲(chǔ):密閉存放在陰涼干燥的地方8.防燥和人員保護(hù)極限N-Methyl-2-pyrrolidone80mg/m3(19ml/m3)DFGMAK(peaklimitationcategory-II,2)(Vapour)(skin)10ppmAIHA,TWAN,N-DIMETHYLACETAMIDE-TWA:10ppm,35mg/m3通風(fēng):良好的通風(fēng)措施,保持良好通風(fēng)人員保護(hù)設(shè)備:橡膠手套、防護(hù)目鏡,避免接觸皮膚、眼睛、衣服、避免吸入蒸汽壓;9.物理和化學(xué)性能物理測(cè)試:液體顏色:微黃氣味:類氨熔點(diǎn):-24~-23℃沸點(diǎn):165~204℃閃點(diǎn):110℃蒸汽壓mmHg@20℃蒸汽壓密度(空氣=1):密度(水=1):粘度:10~200cps水中溶解性:任意比例混溶其它溶劑:溶于部分有機(jī)溶劑PH值:10.穩(wěn)定性與活性穩(wěn)定性:穩(wěn)定危險(xiǎn)反應(yīng):有機(jī)和無(wú)機(jī)酸、強(qiáng)氧化劑、堿金屬、強(qiáng)酸混溶性:強(qiáng)氧化劑和酸不能混溶,在高溫氣壓下可與二硫化碳反應(yīng)避免條件:熱、火、火源及混溶11.毒性N-Methyl-2-pyrrolidone實(shí)際毒性LD50/口服:3600mg/kgLD50/皮膚接觸(兔):8000mg/kgLC50/吸入(鼠):>mg/1/4hN,N-DIMETHYLACETAMIDELD50/口服/鼠:>2000mg/kgLD50/皮膚接觸/兔:>。南京剝離液批量定制