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福建納米壓印干涉測量應(yīng)用EVG ? 720自動SmartNIL ? UV納米壓印光刻系統(tǒng) 自動全視野的UV納米壓印溶液達150毫米，設(shè)有EVG's專有SmartNIL ?技術(shù) EVG720系統(tǒng)利用EVG的創(chuàng)新SmartNIL技術(shù)和材料專業(yè)知識，能夠大規(guī)模...
2021-06-11 -
晶片納米壓印現(xiàn)場服務(wù)
納米壓印光刻設(shè)備-處理結(jié)果： 新應(yīng)用程序的開發(fā)通常與設(shè)備功能的提高緊密相關(guān)。 EVG的NIL解決方案能夠產(chǎn)生具有納米分辨率的多種不同尺寸和形狀的圖案，并在顯示器，生物技術(shù)和光子應(yīng)用中實現(xiàn)了許多新的創(chuàng)新。HRI SmartNIL?壓印上的單個像素的1....
2021-06-11 -
有機發(fā)光膜厚儀優(yōu)惠價格
厚度測量產(chǎn)品：我們的膜厚測量產(chǎn)品可適用于各種應(yīng)用。我們大部分的產(chǎn)品皆備有庫存以便快速交貨。請瀏覽本公司網(wǎng)頁產(chǎn)品資訊或聯(lián)系我們的應(yīng)用工程師針對您的厚度測量需求提供立即協(xié)助。 單點厚度測量： 一鍵搞定的薄膜厚度和折射率臺式測量系統(tǒng)。 測量 ...
2021-06-10 -
晶圓輪廓儀應(yīng)用
1.5. 系統(tǒng)培訓的注意事項 如何使用電子書閱讀軟件和軟、硬件的操作手冊； 數(shù)據(jù)采集功能的講解：通訊端口、連接計算器、等待時間等參數(shù)的解釋和參數(shù)設(shè)置； 實際演示一一講解； 如何做好備份和恢復備份資料；...
2021-06-10 -
廣西納米壓印三維芯片應(yīng)用
SmartNIL是行業(yè)**的NIL技術(shù)，可對小于40 nm *的極小特征進行圖案化，并可以對各種結(jié)構(gòu)尺寸和形狀進行圖案化。SmartNIL與多用途軟戳技術(shù)相結(jié)合，可實現(xiàn)****的吞吐量，并具有顯著的擁有成本優(yōu)勢，同時保留了可擴展性和易于維護的操作。EVG的...
2021-06-09 -
福建輪廓儀出廠價
輪廓儀的性能 測量模式 移相干涉（PSI），白光垂直掃描干涉（VSI），單色光垂直掃描干涉（CSI） 樣 品 臺 150mm/200mm/300mm 樣品臺（可選配） XY 平移：±25mm/150mm/200mm/300m...
2021-06-08 -
中科院隔振臺試用
TS-140 TS-140結(jié)合了久經(jīng)考驗的技術(shù)特點與優(yōu)雅且對用戶友好的設(shè)計 這種中型動態(tài)隔振系統(tǒng)非常適合所有需要頂板上空間比TS-150更大的應(yīng)用。 在公制（M6 x 25mm）或非公制網(wǎng)格上鉆孔的頂板可將各種設(shè)備安裝在隔離的桌面上。 ...
2021-06-08 -
TS-140+40/LP隔振臺聯(lián)系電話
TS-C TS-C系列是緊湊的動態(tài)防振系統(tǒng)，可隔離所有六個平移和旋轉(zhuǎn)振動模式。 這些價格適中的動態(tài)振動隔離系統(tǒng)在體積上卻比比較大，**昂貴的無源系統(tǒng)更好地實現(xiàn)了隔離。使用壓電力馬達的慣性反饋不僅可以隔離建筑物的振動，還可以隔離放置在系統(tǒng)本身上的振...
2021-06-07 -
玻璃厚度膜厚儀**
參考材料 備用 BK7 和二氧化硅參考材料。 BG-Microscope顯微鏡系統(tǒng)內(nèi)取背景反射的小型抗反光鏡 BG-F10-RT平臺系統(tǒng)內(nèi)獲取背景反射的抗反光鏡 REF-Al-1mmSubstrate基底 - 高反射率鋁基準 ...
2021-06-06 -
北京光刻機摩擦學應(yīng)用
光刻膠處理系統(tǒng) EVG100系列光刻膠處理系統(tǒng)為光刻膠涂層和顯影建立了質(zhì)量和靈活性方面的新標準。EVG100系列的設(shè)計旨在提供**廣/泛的工藝變革，其模塊化功能可提供旋涂和噴涂，顯影，烘烤和冷卻模塊，以滿足個性化生產(chǎn)需求。這些系統(tǒng)可處理各種材料...
2021-06-06 -
多層膜膜厚儀鍍膜行業(yè)
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2021-06-05 -
液晶顯示器膜厚儀售后服務(wù)
平臺和平臺附件標準和**平臺。 CS-1可升級接觸式SS-3樣品臺，可測波長范圍190-1700nm SS-36“×6” 樣品平臺，F(xiàn)20 系統(tǒng)的標準配置。 可調(diào)節(jié)鏡頭高度，103 mm 進深。 適用所有波長范圍。 SS-3-88“×8”...
2021-06-04 -
浙江掩模對準隔振臺
LFS-3傳感器在三個軸上測量水平和垂直加速度，頻率約為0.2Hz。該傳感器直接放置在地板上，與標準AVI/LP系統(tǒng)結(jié)合使用在前饋回路中，以提高極低頻時的隔振性能。LFS-3可以被復裝到現(xiàn)有的AVI/LP系統(tǒng)中。下面的圖顯示了在AVI/LP系統(tǒng)上測量的垂直...
2021-06-04 -
掩模對準光刻機可以試用嗎
HERCULES 光刻軌道系統(tǒng) 所述HERCULES ?是一個高容量的平臺整合整個光刻工藝流在一個系統(tǒng)中，縮小處理工序和操作者支持。 HERCULES基于模塊化平臺，將EVG建立的光學掩模對準技術(shù)與集成的晶圓清洗，光刻膠涂層，烘烤和光刻...
2021-06-04 -
研究所膜厚儀保修期多久
銦錫氧化物與透明導電氧化物液晶顯示器，有機發(fā)光二極管變異體，以及絕大多數(shù)平面顯示器技術(shù)都依靠透明導電氧化物 (TCO) 來傳輸電流，并作每個發(fā)光元素的陽極。 和任何薄膜工藝一樣，了解組成顯示器各層物質(zhì)的厚度至關(guān)重要。 對于液晶顯示器而言，就需要有測量聚酰亞...
2021-06-04 -
原子力顯微鏡AFM隔振臺質(zhì)量怎么樣
AVI-600系列（負載：1200kg） 型號：AVI-600SLP，AVI-600MLP，AVI-600XLP 形狀：控制器與防振單元分離型 主動控制范圍：被動隔振范圍200Hz以上 確認防振狀態(tài)：使用控制器背面的BNC連接器，外...
2021-06-04 -
江西EV Group光刻機
EV集團（EVG）是面向MEMS，納米技術(shù)和半導體市場的晶圓鍵合機和光刻設(shè)備的**供應(yīng)商，***宣布已收到其制造設(shè)備和服務(wù)的***組合產(chǎn)品組合的多個訂單，這些產(chǎn)品和服務(wù)旨在滿足對晶圓的新興需求，水平光學（WLO）和3D感應(yīng)。市場**的產(chǎn)品組合...
2021-06-03 -
湖北隔振臺用途是什么
TS主動隔振臺在3D空間的6個自由度中主動式隔振 從0.7 Hz 到100 Hz 在21世紀納米技術(shù)(即先進的半導體**相關(guān)的信息技術(shù),基因療法等生命科學相關(guān)技術(shù),原子或分子處理如MEMS和工程技術(shù)等新材料生產(chǎn)), 振動、噪聲、電磁領(lǐng)域、熱、濕度...
2021-06-03 -
光學顯微鏡隔振臺當?shù)貎r格
關(guān)鍵詞：主動式隔震臺、主動式隔振臺、主動式防振臺、防振臺、AVI、Herz、Tablestable、 ·AVI系列振動傳遞率 橫坐標為頻率，縱坐標為傳遞率的數(shù)據(jù)，在10hz頻率以上時，傳遞率的數(shù)據(jù)小于0.02，很好地起到了隔振作...
2021-06-03 -
陜西鍵合機國內(nèi)用戶
EVG501晶圓鍵合機，先進封裝，TSV，微流控加工?；竟δ埽河糜趯W術(shù)和工業(yè)研究的多功能手動晶圓鍵合系統(tǒng)。適用于：微流體芯片，半導體器件處理，MEMS制造，TSV制作，晶圓先進封裝等。 一、簡介： EVG501是一種高度靈活的晶圓鍵合系統(tǒng)，可...
2021-06-03 -
吉林光刻機售后服務(wù)
IQ Aligner? 自動化掩模對準系統(tǒng) 特色：EVG ? IQ定位儀?平臺用于自動非接觸近距離處理而優(yōu)化的用于晶片尺寸高達200毫米。 技術(shù)數(shù)據(jù)：IQ Aligner是具有高度自動化程度的非接觸式接近光刻平臺，可滿足將生產(chǎn)線中的掩模污染降至...
2021-06-02 -
膜厚儀科研應(yīng)用
其可測量薄膜厚度在1nm到1mm之間，測量精度高達1埃，測量穩(wěn)定性高達，測量時間只需一到二秒,并有手動及自動機型可選?？蓱?yīng)用領(lǐng)域包括：生物醫(yī)學（Biomedical）,液晶顯示(Displays),硬涂層(Hardcoats),金屬膜(Metal),眼...
2021-06-02 -
圖像傳感器納米壓印免稅價格
SmartNIL是行業(yè)**的NIL技術(shù)，可對小于40 nm *的極小特征進行圖案化，并可以對各種結(jié)構(gòu)尺寸和形狀進行圖案化。SmartNIL與多用途軟戳技術(shù)相結(jié)合，可實現(xiàn)****的吞吐量，并具有顯著的擁有成本優(yōu)勢，同時保留了可擴展性和易于維護的操作。EVG的...
2021-06-02 -
廣東輪廓儀原理
新型光學輪廓儀!film3D使得光學輪廓測量更易負擔*后，表面粗糙度和表面形貌測量可以用比探針式輪廓儀成本更低的儀器來進行。film3D具有3倍於于其成本儀器的次納米級垂直分辨率,film3D同樣使用了現(xiàn)今*高 分辨率之光學輪廓儀的測量技術(shù)包含垂直掃描...
2021-06-02 -
3D IC鍵合機聯(lián)系電話
EVG?520IS晶圓鍵合系統(tǒng)■擁有EVG?501和EVG?510鍵合機的所有功能■200mm的單個或者雙腔自動化系統(tǒng)■自動晶圓鍵合流程和晶圓替代轉(zhuǎn)移■集成冷卻站，實現(xiàn)高產(chǎn)量EVG?540自動鍵合系統(tǒng)■300mm單腔鍵合室■自動處理多達4個鍵合卡盤■模塊化鍵合...
2021-06-02 -
北京鍵合機價格怎么樣
EVG320技術(shù)數(shù)據(jù) 晶圓直徑（基板尺寸） 200、100-300毫米 清潔系統(tǒng) 開室，旋轉(zhuǎn)器和清潔臂 腔室：由PP或PFA制成（可選） 清潔介質(zhì)：去離子水（標準），其他清潔介質(zhì)（可選） 旋轉(zhuǎn)卡盤：真空卡盤（標準）...
2021-06-01 -
中科院納米壓印供應(yīng)商
EVG ? 510 HE是EVG500系列的熱壓印系統(tǒng) EV Group的一系列高精度熱壓印系統(tǒng)基于該公司市場**的晶圓鍵合技術(shù)。出色的壓力和溫度控制以及大面積的均勻性可實現(xiàn)高精度的壓印。熱壓印是一種經(jīng)濟高 效且靈活的制造技術(shù)，對于尺寸...
2021-06-01 -
碳化硅光刻機特點
EVG620 NT特征2： 自動原點功能，用于對準鍵的精確居中 具有實時偏移校正功能的動態(tài)對準功能 支持**/新的UV-LED技術(shù) 返工分揀晶圓管理和靈活的盒式系統(tǒng) 自動化系統(tǒng)上的手動基板裝載功能 可以從半自動版本升級到全...
2021-06-01 -
VSI輪廓儀聯(lián)系電話
我們的輪廓儀有什么優(yōu)勢呢 世界先進水平的產(chǎn)品技術(shù) 合理的產(chǎn)品價格 24小時到現(xiàn)場的本地化售后服務(wù) 無償產(chǎn)品技術(shù)培訓和應(yīng)用技術(shù)支持 個性化的應(yīng)用軟件服務(wù)支持 合理的保質(zhì)期后產(chǎn)品服務(wù) 更佳的產(chǎn)品性價比和更優(yōu)解決方案 ...
2021-06-01 -
量產(chǎn)納米壓印推薦型號
EVG ? 510 HE特征： 用于聚合物基材和旋涂聚合物的熱壓印應(yīng)用 自動化壓花工藝 EVG專有的**對準工藝，用于光學對準的壓印和壓印 完全由軟件控制的流程執(zhí)行 閉環(huán)冷卻水供應(yīng)選項 外部浮雕和冷卻站 E...
2021-06-01