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LFS LFS傳感器在三個軸上測量水平和垂直加速度，直到頻率約為0.2Hz。該傳感器直接放置在地板上，并與標準AVI / LP系統(tǒng)結合使用在前饋環(huán)路中，以提高非常低頻率的振動隔離。LFS可以改裝為現(xiàn)有的AVI-LP系統(tǒng)。 LFS-3的設計、制造...

輪廓儀是用容易理解的機械技術測量薄膜厚度。它的工作原理是測量測量劃過薄膜的檢測筆的高度(見右圖)。輪廓儀的主要優(yōu)點是可以測量所有固體膜，包括不透明的厚金屬膜。更昂貴的系統(tǒng)能測繪整個表面輪廓。(有關我們的低成本光學輪廓儀的資訊，請點擊這里).獲取反射光譜...

EVG101光刻膠處理系統(tǒng)的特征： 晶圓尺寸可達300毫米； 自動旋轉或噴涂或通過手動晶圓加載/卸載進行顯影； 利用成熟的模塊化設計和標準化軟件，快速輕松地將過程從研究轉移到生產； 注射器分配系統(tǒng)，用于利用小體積的光刻膠，包括高粘度...

IQ Aligner?NT特征： 零輔助橋接工具-雙基板概念，支持200 mm和300 mm的生產靈活性 吞吐量> 200 wph（首/次打?。? 尖/端對準精度： 頂側對準低至250 nm 背面對準低至500 nm ...

輪廓儀的物鏡知多少? 白光干涉輪廓儀是基于白光干涉原理，以三維非接觸時方法測量分析樣片表面形貌的關鍵參數(shù)和尺寸，典型結果包括： 表面形貌（粗糙度，平面度，平行度，臺階高度，錐角等） 幾何特征（關鍵孔徑尺寸，曲率半徑，特征區(qū)域的...

HERCULES 光刻軌道系統(tǒng) 所述HERCULES ?是一個高容量的平臺整合整個光刻工藝流在一個系統(tǒng)中，縮小處理工序和操作者支持。 HERCULES基于模塊化平臺，將EVG建立的光學掩模對準技術與集成的晶圓清洗，光刻膠涂層，烘烤和光刻...

LFS控制單元上的每個D-Sub15插座都有4個對應于AVI元件的開關輸出，這些AVI元件以任意4個矩形方向（即平行或直角）放置，不允許其他方向。 面向LFS傳感器的藍色LED直立。將***個AVI元件連接到后面板上的12個D-Sub15插座中的任何...

Plessey工程副總裁John Whiteman解釋說：“ GEMINI系統(tǒng)的模塊化設計非常適合我們的需求。在一個系統(tǒng)中啟用預處理，清潔，對齊（對準）和鍵合，這意味著擁有更高的產量和生產量。EVG提供的質量服務對于快 速有 效地使系統(tǒng)聯(lián)機至關重要?！?...

接觸探頭測量彎曲和難測的表面 CP-1-1.3測量平面或球形樣品，結實耐用的不銹鋼單線圈。 CP-1-AR-1.3可以抑 制背面反射，對 1.5mm 厚的基板可抑 制 96%。 鋼制單線圈外加PVC涂層，比較大可測厚度 15um。 CP-...

***使用AVI系統(tǒng)時，將前面板隔離開關設置為關閉（黑色旋鈕熄滅）。打開電源。電源指示燈現(xiàn)在將點亮，16個顯示LED將短暫閃爍。黃色啟用LED將在約2Hz時閃爍。如果出現(xiàn)劇烈振動或把手放在桌面上，部分或全部LED將閃爍。打開電源約30秒后，您可以將隔離開關...

輪廓儀的技術原理 被測表面(光)與參考面(光)之間的光程差（高度差）形成干涉 移相法(PSI) 高度和干涉相位 f = (2p/l ) 2 h 形貌高度: < 120nm 精度: < 1nm RMS重復性: 0.01n...

什么是長久鍵合系統(tǒng)呢？ EVG晶圓鍵合方法的引入將鍵合對準與鍵合步驟分離開來，立即在業(yè)內掀起了市場**。利用高溫和受控氣體環(huán)境下的高接觸力，這種新穎的方法已成為當今的工藝標準，EVG的鍵合機設備占據(jù)了半自動和全自動晶圓鍵合機的主要市場份額，并且安裝...

我們的輪廓儀有什么優(yōu)勢呢 世界先進水平的產品技術 合理的產品價格 24小時到現(xiàn)場的本地化售后服務 無償產品技術培訓和應用技術支持 個性化的應用軟件服務支持 合理的保質期后產品服務 更佳的產品性價比和更優(yōu)解決方案 ...

技術指標：頻率負載范圍尺寸0,7-1000Hz0-140公斤500x600x84毫米 隔離：動態(tài)（超過1kHz） 透射率：參見附件曲線10Hz以上的透射率<（-40dB） 矯正力：垂直+/-8N水平+/-4N 靜態(tài)合規(guī)性：大...

輪廓儀對所測樣品的尺寸有何要求？ 答：輪廓儀對載物臺xy行程為140*110mm（可擴展），Z向測量范圍比較大可達10mm，但由于白光干涉儀單次測量區(qū)域比較小（以10X鏡頭為例，在1mm左右），因而在測量大尺寸的樣品時，全檢的方式需要進行拼接測量，檢...

銦錫氧化物與透明導電氧化物液晶顯示器，有機發(fā)光二極管變異體，以及絕大多數(shù)平面顯示器技術都依靠透明導電氧化物 (TCO) 來傳輸電流，并作每個發(fā)光元素的陽極。 和任何薄膜工藝一樣，了解組成顯示器各層物質的厚度至關重要。 對于液晶顯示器而言，就需要有測量聚酰亞...

備用光源： LAMP-TH1-5PAK：F10、F20、F30、F40、F50、和 F60 系統(tǒng)的非紫外光源。 5個/盒。1200 小時平均無故障。 LAMP-TH：F42F42 系統(tǒng)的光源。 1000 小時平均無故障。 LAMP-THF...

納米壓印光刻設備-處理結果： 新應用程序的開發(fā)通常與設備功能的提高緊密相關。 EVG的NIL解決方案能夠產生具有納米分辨率的多種不同尺寸和形狀的圖案，并在顯示器，生物技術和光子應用中實現(xiàn)了許多新的創(chuàng)新。HRI SmartNIL?壓印上的單個像素的1....

技術指標：頻率負載范圍尺寸0,7-1000Hz0-140公斤500x600x84毫米 隔離：動態(tài)（超過1kHz） 透射率：參見附件曲線10Hz以上的透射率<（-40dB） 矯正力：垂直+/-8N水平+/-4N 靜態(tài)合規(guī)性：大...

F60 系列 包含的內容：集成平臺/光譜儀/光源裝置（不含平臺）4", 6" and 200mm 參考晶圓TS-SiO2-4-7200 厚度標準真空泵備用燈 型號厚度范圍*波長范圍 F60-t:20nm-70μm 380-1050nm ...

SmartNIL技術簡介 SmartNIL是基于紫外線曝光的全域型壓印技術，可提供功能強大的下一代光刻技術，幾乎具有無限的結構尺寸和幾何形狀功能。由于SmartNIL集成了多次使用的軟標記處理功能，因此還可以實現(xiàn)****的吞吐量，并具有顯著的擁有成本...

F50 系列 包含的內容：集成光譜儀/光源裝置光纖電纜4", 6" and 200mm 參考晶圓TS-SiO2-4-7200 厚度標準BK7 參考材料整平濾波器 (用于高反射基板)真空泵備用燈 型號 厚度范圍*波長范圍 F50：20nm-...

EVG的晶圓鍵合機鍵合室配有通用鍵合蓋，可快速排空，快速加熱和冷卻。通過控制溫度，壓力，時間和氣體，允許進行大多數(shù)鍵合過程。也可以通過添加電源來執(zhí)行陽極鍵合。對于UV固化黏合劑，可選的鍵合室蓋具有UV源。鍵合可在真空或受控氣體條件下進行。頂部和底部晶片的獨...

水平X軸方向上的振動傳遞衰減，在承重時10hz的頻率以上時，比較大可以達到-40dB的衰減。隔振效率可以達到99%以上的效果。10Hz以上的頻率正常情況下是30dB到40dB的衰減。 水平Y軸方向上的振動傳遞衰減，在承重時10hz的頻率以上時...

HERCULES ? NIL特征： 全自動UV-NIL壓印和低力剝離 **多300毫米的基材 完全模塊化的平臺，具有多達八個可交換過程模塊（壓印和預處理） 200毫米/ 300毫米橋接工具能力 全區(qū)域烙印覆蓋 批量生產**小...

為了優(yōu)化工藝鏈，HERCULES NIL中包括多次使用的軟印章的制造，這是大批量生產的基石，不需要額外的壓印印章制造設備。作為一項特殊功能，該工具可以升級為具有ISO 3 *功能的微型環(huán)境，以確保比較低的缺 陷率和比較高質量的原版復制。 通過為大批量...

EVG?850LT 特征 利用EVG的LowTemp?等離子基活技術進行SOI和直接晶圓鍵合 適用于各種熔融/分子晶圓鍵合應用 生產系統(tǒng)可在高通量，高產量環(huán)境中運行 盒到盒的自動操作（錯誤加載，SMIF或FOUP） 無污...

AVI-400系列（負載：**多800kg） 型號：AVI-400SLP，AVI-400MLP，AVI-400XLP 系統(tǒng)形狀：控制器與防振單元分離型 主動控制范圍：被動隔振范圍200Hz以上 確認防振狀態(tài)：使用控制器背面的BNC連接...

LFS控制單元上的每個D-Sub15插座都有4個對應于AVI元件的開關輸出，這些AVI元件以任意4個矩形方向（即平行或直角）放置，不允許其他方向。 面向LFS傳感器的藍色LED直立。將***個AVI元件連接到后面板上的12個D-Sub15插座中的任何...

1）白光輪廓儀的典型應用： 對各種產品，不見和材料表面的平面度，粗糙度，波溫度，面型輪廓，表面缺 陷，磨損情況，腐蝕情況，孔隙間隙，臺階高度，完全變形情況，加工情況等表面形貌特征進行測量和分析。 2）共聚焦顯微鏡方法 共聚焦顯微鏡包...